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了解反應釜高低溫循環(huán)裝置的控溫工藝

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具體成交價以合同協議為準
  • 型號 SUNDI -125
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 無錫市

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更新時間:2024-09-23 18:20:39瀏覽次數:5406

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產品簡介

產地 國產 產品新舊 全新
【無錫冠亞】了解反應釜高低溫循環(huán)裝置的控溫工藝,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

詳細介紹

 

 

 

型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/

 

 

 

 

 

 


 

 

 

 

 

 

了解反應釜高低溫循環(huán)裝置的控溫工藝

了解反應釜高低溫循環(huán)裝置的控溫工藝

  反應釜高低溫循環(huán)裝置是針對反應釜、反應器、反應罐等進行流體制冷加熱控溫的設備,目前市面上的廠家比較多,那么反應釜高低溫循環(huán)裝置的控溫原理以及工藝大家都了解多少呢?

  1、在進行制冷加熱控溫的時候,配套的反應釜高低溫循環(huán)裝置進行控溫達到預期的溫度范圍,這整個過程會使得產生一定的化學反應,產生熱量,這個反應過程容易被外界所影響,所以,放置環(huán)境比較重要,建議選擇通風陰涼的靠譜房間放置。

  2、配套的反應釜在進行聚合反應的,會出現一系列的放熱反應以及吸熱反應,在進行化學反應的時候,建議周圍操作人員不要太靠近,避免產生一定的麻煩。在進行反應的過程中,如果熱量不及時排除,會影響反映得壓力,如果壓力太高會使得整個反應處于一定的危險。

  3、可以配套不同容積大小的反應釜進行制冷加熱控溫,由于不同大小的反應釜帶來的熱容量不同,所以其吸熱或者放熱的能力也不同,因此,用戶在選型時需要提供準確反應釜大小、溫度要求、材質等工況要求給廠家進行選型,避免選型或大或小導致設備達不到預期的溫度要求。

  4、可以同時控制一臺或者多臺反應釜,是一種集成控溫的大系統裝置,可以根據工況要求進行生產。

  5、*的加熱設計,可以使得溫度快速升降到生產工藝所需溫度的要求,使用的PID控制技術可以均勻的升降溫度達到恒定的值,且溫控精度高。

  6、根據不同客戶的溫度需求,可以按要求設計定制設備。

  用戶在選擇滿足自身生產工藝的需求的反應釜高低溫循環(huán)裝置很重要,可以提高產品的質量,可以一定程度上降低生產成本。


 

 

4804836921_52207716684_1641869522587_jiage.jpg

 

  無錫冠亞的各種設備的原理以及參數僅供參考,不同客戶實際拿到的設備是按照自己的工況需求與參數設計生產出來的,設備配置、價格以及型號存在一定的差異,具體以銷售聯系溝通為準。

 

 

 

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