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　　所謂的低溫蒸餾設(shè)備指的就是一種在高真空下操作的蒸餾方法，按刮膜器形式分三種形式：滾膜、滑動刮膜、鉸鏈刮膜，根據(jù)物料的粘度、處理性質(zhì)選用不同的刮膜器。在沸騰的薄膜和冷凝面之間的壓差是蒸汽流向的驅(qū)動力，對于微小的壓力降就會引起蒸汽的流動。在要求下運行要求在沸騰面和冷凝面之間非常短的距離，基于這個原理制作的蒸餾器稱為短程蒸餾器。

　　低溫蒸餾設(shè)備過程大致如下：

　　1.分子從液相主體向蒸發(fā)表面擴(kuò)散：通常，液相中的擴(kuò)散速度是控制分子蒸餾速度的主要因素，所以應(yīng)盡量減薄液層厚度及強(qiáng)化液層的流動。

　　2.分子在液層表面上的自由蒸發(fā)：蒸發(fā)速度隨著溫度的升高而上升，但分離因素有時卻隨著溫度的升高而降低，所以，應(yīng)以被加工物質(zhì)的熱穩(wěn)定性為前提，選擇經(jīng)濟(jì)合理的蒸餾溫度。

　　3.分子從蒸發(fā)表面向冷凝面飛射：蒸氣分子從蒸發(fā)面向冷凝面飛射的過程中，可能彼此相互碰撞，也可能和殘存于兩面之間的空氣分子發(fā)生碰撞。由于蒸發(fā)分子遠(yuǎn)重于空氣分子，且大都具有相同的運動方向，所以它們自身碰撞對飛射方向和蒸發(fā)速度影響不大。而殘氣分子在兩面間呈雜亂無章的熱運動狀態(tài)，故殘氣分子數(shù)目的多少是影響飛射方向和蒸發(fā)速度的主要因素。

4.分子在冷凝面上冷凝：只要保證冷熱兩面間有足夠的溫度差，冷凝表面的形式合理且光滑則認(rèn)為冷凝步驟可以在瞬間完成。