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Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地 進(jìn)口 產(chǎn)品新舊 全新
Cirs023 ISO立方體QA模體,Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體經(jīng)濟(jì) * 準(zhǔn)確 * 易于使用

詳細(xì)介紹



Cirs023 ISO立方體QA模體,Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體經(jīng)濟(jì) * 準(zhǔn)確 * 易于使用

 
通過成像引導(dǎo)定位目標(biāo)對于準(zhǔn)確進(jìn)行放射zhi 療至關(guān)重要。驗(yàn)證所有成像、定位和瞄準(zhǔn)系統(tǒng)是否與真正的輻射等中心對齊至關(guān)重要。Cirs023 ISO立方體QA模體,Cirs 023等 中心校準(zhǔn)模體提供了一種經(jīng)濟(jì)高效、快速和準(zhǔn)確的方法來測試輻射等中心與圖像引導(dǎo)系統(tǒng)的等中心重合。
 
ISO 立方體專為日常系統(tǒng)檢查而設(shè)計(jì)。LINAC激光器和光場可以使用ISO立方體外部的雕刻標(biāo)記“調(diào)諧"到真正的輻射等中心??梢允褂脙?nèi)置射線標(biāo)記檢查光場和輻射場對準(zhǔn)。更重要的是,可以檢查OBI和EPID的等中心是否與處理光束的空間對齊和重合。
 
ISO 立方體包含一個(gè)wei 一的中心點(diǎn)基準(zhǔn)點(diǎn)和一個(gè)偏移目標(biāo)。偏移目標(biāo)用于通過定位目標(biāo),移動確定的量并驗(yàn)證偏移目標(biāo)是否已定位在等中心,來確保kV/MV成像產(chǎn)生的工作臺偏移坐標(biāo)準(zhǔn)確。中心基準(zhǔn)點(diǎn)和偏置目標(biāo)直徑為 6.35 mm,由陶瓷制成。外部加工有同心圓目標(biāo),使用戶能夠客觀地評估所有設(shè)置錯(cuò)誤,包括旋轉(zhuǎn),并輕松地將模型與真實(shí)的輻射等心對齊。ISO 立方體的加工公差為 ± 0.02 mm。目標(biāo)定位精度±0.1毫米。
 
提供可選的光學(xué)目標(biāo)幀適配器,以簡單且可重復(fù)的方式將任何無框 SRS RF 或光學(xué)跟蹤目標(biāo)陣列機(jī)械地注冊到 ISO 立方體。用戶可以通過他們選擇的粘合劑或機(jī)械緊固件安裝目標(biāo)陣列。
 
有兩個(gè)平臺可用于 ISO 立方體。一個(gè)設(shè)計(jì)用于注冊沙發(fā)分度桿,并提供用于增量調(diào)整俯仰、橫滾和偏航的索引。第二個(gè)平臺提供調(diào)平支腿和嵌入式標(biāo)記,用于使用Iso Analyze軟件計(jì)算kV/MV像素尺寸。

Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體
 

Cirs023 ISO立方體QA模體,Cirs 023 等中心校準(zhǔn)模體特征:

 
快速且易于使用
獨(dú)特的基準(zhǔn)點(diǎn)可在 EPID、kV 和 CBCT 成像中產(chǎn)生清晰的圖像
偏移基準(zhǔn)點(diǎn),用于檢cha 床校正的準(zhǔn)確性
檢查 - 激光對準(zhǔn)
– 光場大小驗(yàn)證
 
– kV 和 MV 成像儀重合
 
– CBCT過程精度
 
– 歐比精度
 
– 工作臺高度精度
 
– 輻射場/光場對準(zhǔn)

Cirs 023等中心校準(zhǔn)模體
 

Cirs023 ISO立方體QA模體,Cirs 023 等中心校準(zhǔn)模體選配軟件:


ISO Analyze™ 圖像分析軟件與 ISO Cube™ Daily QA Phantom 和 ISO Base™ Align Platform 集成,通過分析 EPID 檢測器采集的 DICOM 圖像,實(shí)現(xiàn) LINAC 等中心的用戶友好質(zhì)量控制。控件自動運(yùn)行,分析ISO立方體™的圖像并量化大量評估參數(shù)。它允許用戶輕松地為每個(gè)前面的控件生成報(bào)告。


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