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沈陽加野科學(xué)儀器有限公司
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KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)

時間:2025-9-4
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2025年9月4日,備受矚目的第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備材料與核心部件展示會在無錫太湖國際博覽中心隆重舉行。本屆半導(dǎo)體設(shè)備年會以“做強中國芯,擁抱芯世界”為主題,匯聚了半導(dǎo)體設(shè)備制造商、傳感器制造企業(yè)及產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè),科研院所的專家學(xué)者,分享最新科研成果與實際應(yīng)用案例,共同探討如何通過技術(shù)創(chuàng)新賦能產(chǎn)業(yè)升級。

KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)
 
KANOMAX攜塵埃粒子計數(shù)器、熱式風(fēng)速儀、風(fēng)速變送器、微差壓計等檢測儀器亮相B3-328展位。

KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)

KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)

KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)

KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)
 
展臺前人流涌動,半導(dǎo)體材料企業(yè)的研發(fā)人員、Fab廠的技術(shù)負責人紛紛駐足咨詢,加野工作人員耐心細致地介紹儀器的性能特點、應(yīng)用場景,并現(xiàn)場進行產(chǎn)品演示,讓大家直觀感受產(chǎn)品的出色性能。

KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)

KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)
 
粒子計數(shù)器在半導(dǎo)體制造環(huán)境中應(yīng)用
在半導(dǎo)體芯片制造過程中,對生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度要求較高,必須禁止因粉塵顆粒、工藝偏差等因素造成晶體短路或斷路,控制凈化環(huán)境下的作業(yè)現(xiàn)場中超微小顆粒物數(shù)量,以保證產(chǎn)品質(zhì)量和提升產(chǎn)品良率。
 
KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)

在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中,粒子計數(shù)器主要應(yīng)用于:
1. Fab廠的制造工藝檢測:在晶圓的光刻、涂膠顯影、刻蝕等多個工藝環(huán)節(jié)中,使用粒子計數(shù)器檢測環(huán)境中的塵埃粒子,確保工藝的精確性。
2. 封裝過程:在晶圓切割封裝過程中,粒子計數(shù)器同樣發(fā)揮著關(guān)鍵作用,保證封裝質(zhì)量。
3. 半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)工藝的質(zhì)量監(jiān)測:通過粒子計數(shù)器對設(shè)備工藝點進行監(jiān)控,確保生產(chǎn)過程的穩(wěn)定性和產(chǎn)品質(zhì)量。

KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)
 
超小型塵埃粒子計數(shù)器3950,專為半導(dǎo)體芯片制造環(huán)境設(shè)計,其能夠精準監(jiān)測0.1μm和0.3μm的微小粒子,且具備致輕致小的優(yōu)勢,也可作為傳感器嵌入生產(chǎn)設(shè)備實時監(jiān)測作業(yè)現(xiàn)場的超微粒子,為凈化作業(yè)環(huán)境的潔凈度評定提供了可靠依據(jù)。憑借0.1μm級的精準檢測技術(shù),為 “中國芯” 制造的每一個微觀環(huán)節(jié)筑牢質(zhì)量防線。
 
KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)
KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)

風(fēng)速儀在半導(dǎo)體制造環(huán)境中應(yīng)用
在半導(dǎo)體制造中,顯影、刻蝕、切割等關(guān)鍵工藝環(huán)節(jié),其環(huán)境風(fēng)速(潔凈室及設(shè)備內(nèi)部局部風(fēng)速)直接影響工藝精度、良率及產(chǎn)品可靠性。合理的風(fēng)速能形成穩(wěn)定的 “層流/亂流場”,將微粒(如光刻膠殘渣、刻蝕副產(chǎn)物、切割粉塵)帶走,避免其附著在晶圓表面導(dǎo)致缺陷;
同時,風(fēng)速異常(過高/過低/不均)會直接引發(fā)良率損失。例如,光刻環(huán)節(jié)風(fēng)速波動5%可能導(dǎo)致線寬偏差0.03μm(7nm工藝線寬偏差允許值僅0.02μm),直接導(dǎo)致芯片失效。

KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)
 
涂膠顯影設(shè)備對生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度要求較高,尤其是光刻膠涂布和顯影過程中,微小的顆粒的污染可能導(dǎo)致光刻圖案缺陷,影響芯片性能。需要通過風(fēng)機過濾單元(FFU)高效過濾器(如HEPA或ULPA)提供潔凈的空氣,有效去除環(huán)境中的顆粒物,確保晶圓表面無污染,從而提高光刻圖案的精度和成品率。

KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)
 
KANOMAX環(huán)境測試儀65Ser能夠準確捕捉潔凈室及設(shè)備內(nèi)部的風(fēng)速變化,無論是微小的風(fēng)速波動還是局部區(qū)域的風(fēng)速差異,同時測量風(fēng)速、溫度、濕度、壓力、輸入管道截面的形狀及尺寸從而計算出風(fēng)量,8種探頭可供選擇,憑借高精度、探頭互換性、穩(wěn)定性、易操作性及多參數(shù)測量顯示等特點在半導(dǎo)體制造設(shè)備行業(yè)得到廣泛應(yīng)用。

KANOMAX亮相第十三屆半導(dǎo)體設(shè)備與核心部件及材料展(CSEAC 2025)

KANOMAX在半導(dǎo)體潔凈技術(shù)領(lǐng)域深耕多年,已經(jīng)贏得了眾多客戶的信賴和認可。公司將持續(xù)加大研發(fā)投入,不斷推出具有競爭力的新產(chǎn)品和新技術(shù),滿足市場的不斷變化和升級需求,為推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展和進步做出更大的貢獻。
感謝各位蒞臨加野KANOMAX展臺參觀交流,明日精彩繼續(xù),讓我們共同見證半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展新征程!

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