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離子濺射儀

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更新時間：2025-02-10 08:06:42瀏覽次數(shù)：247次

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南京南大儀器有限公司

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品介紹：LZ-Ⅱ離子濺射儀鍍膜基本原理是基于荷能正離子轟擊靶電極產(chǎn)生濺射現(xiàn)象，靶被濺射出來的中性原子沉淀于基臺上樣品表面成膜，形成導電層。

詳細介紹

LZ-Ⅱ離子濺射儀鍍膜基本原理是基于荷能正離子轟擊靶電極產(chǎn)生濺射現(xiàn)象，靶被濺射出來的中性原子沉淀于基臺上樣品表面成膜，形成導電層。

用途：

　　LZ-Ⅱ離子濺射儀是一種小型鍍膜裝置，可用作掃描電鏡、電子探針等儀器進行試樣制備，是開展教學科研實驗的儀器。

　　鍍膜原理與結構：

　　該離子濺射儀為二極結構，以基臺和樣品架為正電極與儀器外殼相連并接地，濺射靶電極為負電極(加負高壓)，它們被安裝在玻璃罩的真空腔內(nèi)，當腔內(nèi)達到一定真空度，在負高壓的作用下發(fā)生輝光放電產(chǎn)生等離子體，其中正離子在電場加速下，獲得足夠能量轟擊負電極上的靶面，靶面被濺射原子沉淀于基臺的樣品表面形成導電膜，以供上述儀器分析。

　　技術參數(shù)：

　　1、型號：

　　1、真空腔：￠150×12 硼酸硅質(zhì)玻璃

　　2、濺射靶尺寸：￠55×0.3

　　3、基臺：￠50 6-8個樣品

　　4、極間距調(diào)節(jié)范圍20-40mm

　　5、濺射電壓： -2000V-0 DC連續(xù)可調(diào)

　　濺射電流0-30 mA

　　6、定時器：0-99分數(shù)字顯示

　　7、真空測量：1×105-1.0×10-1pa 數(shù)字顯示，單片機控制，數(shù)字顯示，具有真空保護鎖設置。

　　8、控制系統(tǒng)：單片機控制，完成真空自動測量、顯示、定時器倒計時功能以及自動完成鍍膜程序。

　　9、真空泵：2L/S二級旋片式直聯(lián)機械泵，極限真空度6×10-1pa