Quorum K1050X射頻等離子刻蝕清洗系統(tǒng)

儀器簡介：
K1050X等離子處理單元由固態(tài)射頻發(fā)生器結合調諧電路組成，同時兩種處理氣體流量針閥監(jiān)控，全部或部分通氣口控制。
它的腔室為圓柱形，樣品裝載為抽屜式抽拉系統(tǒng)，方便使用。
真空系統(tǒng)為旋轉機械泵或可選用膜片泵作為前級真空的渦輪分子泵。
在真空裝載端口及SEM/TEM中特殊的清潔應用時，可方便更換抽屜式抽拉系統(tǒng)。
此系統(tǒng)通常使用氧及氬的混合氣體，氧去除有機物質（碳氫化合物），氬對樣品表面進行刻蝕。
應用：
● 石棉試樣制備
● 有機材料微觀灰化
● SEM&TEM中有機樣品刻蝕
● 去除光刻膠及電子元件中的包膠
● 塑料品的表面處理
● SEM/TEM中的樣品夾清洗
● 煤的灰化

Quorum K1050X射頻等離子刻蝕清洗系統(tǒng)技術參數(shù)：
儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 300mm H 重量：25Kg
桶形工作腔室：‘Pyrex’160mm L x 110mm Dia.（硼硅酸鹽玻璃作為標準配置）
拉出式抽屜：樣品托盤為抽拉式
等離子輸出：射頻電源-固態(tài)150瓦射頻峰值，通常操作范圍在25到75 瓦 @ 13.56mhz.
(備注：所使用的頻率為標準組織CISPR認可的“工業(yè)”頻率)
真空測量范圍：完整的操作真空顯示的活性計量頭ATM - 1x10-5 mbar全刻度-通常操作真空為0.5mbar到1.0mbar
數(shù)字計時單元：99.9小時選擇范圍時間顯示。在灰化過程結束后自動終止。
雙氣體流控制：雙氣體針閥控制，可選1或2或兩種氣體（校準5到 100cm3/分 空氣 @ A.T.P.）
電源：230V 50Hz (包括泵大電流5 Amp)；115V 60Hz(包括泵大電流10 Amp)
Services： Process Gas at nominal 5 psi, (0.33bar)
真空泵：No. 2 泵 (with a synthetic oil ''Fomblin'' for Oxygen or Corrosive Process Gases.) 2m3/Hr

主要特點：
特點：
● 固態(tài)射頻發(fā)生器及調諧電路
● 全自動控制
● 抽屜式結構
● 兩種處理氣體
● 緊湊的臺式系統(tǒng)
優(yōu)點：
● 低溫灰化過程
● 易操作
● 裝/卸樣品方便
● 可選擇不同的混合氣體
● 節(jié)省空間
● 注：我們建議使用No. 2泵，它具有“的油”。