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M2型全譜直讀光譜儀

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更新時(shí)間:2018-11-23 09:19:54瀏覽次數(shù):657

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M2型全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù),全數(shù)字化及互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)結(jié)合,運(yùn)用高分辯率CMOS檢測(cè)器,精密設(shè)計(jì)的氬氣吹掃系統(tǒng),使儀器具有j較高的性能、較低的成本、以及竟?fàn)幜Φ膬r(jià)格。

詳細(xì)介紹

M2型全譜直讀光譜儀

可應(yīng)用于多種材料的分析。

01 小巧、輕便、精致、可靠的儀器結(jié)構(gòu),具有同類(lèi)型直讀光譜儀準(zhǔn)確的分析數(shù)據(jù)。

02 超小設(shè)計(jì)的光學(xué)室結(jié)構(gòu)及優(yōu)化設(shè)計(jì)的氬氣吹掃系統(tǒng),保證紫外區(qū)元素譜線的透過(guò)率。

03 應(yīng)用高分辯多CMOS讀出系統(tǒng),較低的暗電流、較好的檢出限、較高的穩(wěn)定性、較強(qiáng)的靈敏度。

04 全數(shù)字化的智能復(fù)合光源DDD技術(shù),充分滿足不同基體、不同樣品以及不同元素的激發(fā)要求。

05 FPGA數(shù)據(jù)采集及以太網(wǎng)網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)傳輸技術(shù),保證數(shù)據(jù)*性及數(shù)據(jù)傳輸速率。

06 內(nèi)置工廠校正曲線及曲線擴(kuò)展技術(shù),滿足不同材料的技術(shù)要求。

07互聯(lián)網(wǎng)網(wǎng)絡(luò)技術(shù)及數(shù)據(jù)云儲(chǔ)存。

08 操作簡(jiǎn)單、維護(hù)成本低、質(zhì)量可靠。

09 竟?fàn)幜Φ膬r(jià)格。

精密設(shè)計(jì)的氬氣吹掃系統(tǒng)

光室密封性強(qiáng),可保持內(nèi)部氬氣*純凈。

光室空間優(yōu)化設(shè)計(jì),降低氬氣消耗,有效節(jié)約產(chǎn)生成本。

低氬氣吹掃系統(tǒng),確保光室UV波段測(cè)量環(huán)境。

光室充氬免除復(fù)雜的真空系統(tǒng)。

高分辯率CMOS檢測(cè)器實(shí)現(xiàn)全譜分析

譜線覆蓋了所有的重要元素,滿足所有基體和材料的分析。

高靈敏的紫外區(qū)檢測(cè),對(duì)N的分析檢測(cè)更準(zhǔn)確。

可有效選擇元素靈敏線,保證分析的準(zhǔn)確度。

多峰擬合技術(shù),有效消除譜線干擾,實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)測(cè)量。

分析軟件功能*

1)基于Windows系統(tǒng)的多國(guó)語(yǔ)言的CCD全譜圖形化分析軟件,方便實(shí)用;

2)*管理的控制整個(gè)測(cè)量過(guò)程及為用戶提供*的數(shù)據(jù)處理能力和測(cè)試報(bào)告輸出能力;

3)儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及*解決方案;

4)軟件實(shí)現(xiàn)全譜檢測(cè)、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法,提高儀器的分析能力;

5)完備的自動(dòng)系統(tǒng)診斷功能;

6)*的數(shù)據(jù)庫(kù)管理功能,可方便查詢、匯總數(shù)據(jù);

7)智能校正算法,保證儀器穩(wěn)定可靠;

8)完備的譜線信息和干擾扣除算法,保證儀器分析更為精準(zhǔn);

9)適應(yīng)Windows操作系統(tǒng)。

M2型全譜直讀光譜儀主要技術(shù)參數(shù)

項(xiàng)目

M2

檢測(cè)基體

單基體

光學(xué)系統(tǒng)

帕型-龍格結(jié)構(gòu)

光室結(jié)構(gòu)

充氬方式

波長(zhǎng)范圍

165-580nm

光柵焦距

150mm

光柵刻線

3600條/mm

探 測(cè) 器

多CMOS檢測(cè)器

光源類(lèi)型

可編程脈沖數(shù)字光源

儀器尺寸

643*450*270

儀器重量

30Kg

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