簡介

MPCNT化學(xué)氣相沉積CVD 是使用乙醇作為碳源的微型、簡化碳納米管（CNT）合成系統(tǒng)。乙醇是用于生產(chǎn)碳納米管CNT的非常方便的材料。它不需要像甲烷或乙炔氣這樣的可燃氣瓶，并且允許在任何地方進行 碳納米管CNT合成實驗。

MPCNT化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)不需要使用還原氣（氫氣）來還原催化劑，因為乙醇還具有很強的金屬還原作用。 由于合金中的Ni，F(xiàn)e或Co催化元素作為催化顆粒被隔離，乙醇的還原作用使CNT可以直接在NiCu，SUS等合金材料上生長，而無需沉積催化劑薄膜。

使用MPCNT化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)，可以在各種類型的基板（例如硅，石英，不銹鋼，金屬和陶瓷）上生長高度結(jié)晶、垂直排列的碳納米管CNT。設(shè)備的外形尺寸與個人計算機一樣緊湊。操作簡單，整個過程僅需20至30分鐘。透明的玻璃室可以直接觀察碳納米管CNT的生長過程。該系統(tǒng)適用于大學(xué)實驗室的碳納米管CNT合成實驗。

*注意：在碳納米管CNT生長之前，應(yīng)在基材上沉積一層薄的催化劑膜。如果客戶沒有催化膜形成系統(tǒng)（例如真空沉積設(shè)備或濺射系統(tǒng)），建議使用我們的MPCNT-Premium化學(xué)氣相沉積CVD 系統(tǒng)，它是一個完整的系統(tǒng)，涵蓋了從催化劑形成到碳納米管CNT生長或功能*的一系列過程真空沉積設(shè)備MPVAP。我們也提供具有催化膜的基材（消耗品）。

臺式化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)的基本模型旨在讓研究人員僅使用乙醇液體（不使用任何烴類氣體）作為碳源，在襯底（硅、石英、金屬、陶瓷）上生長垂直排列的碳納米管CNT，從而獲得高度結(jié)晶的碳納米管CNT。 臺式化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)可以安裝在任何地方，即使在無法儲存氫氣（例如C2H2或C2H4）的實驗室中。

特征          

• 配備乙醇注入裝置，不需要易燃的烴類氣體
• 碳納米管CNT生長僅需幾分鐘，整個操作過程不到30分鐘
• 結(jié)構(gòu)緊湊、操作簡單、高質(zhì)量的碳納米管CNT

技術(shù)參數(shù)