Nanotrac wave II納米粒度及zeta電位儀

Zeta電位測量：
美國麥奇克有限公司（Microtrac Inc.）以其在激光衍射/散射技術和顆粒表征方面的獨到見解，經過多年的市場調研和潛心研究，開發(fā)出新一代Nanotrac wave II微電場分析技術，融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測量于一體，無需傳統(tǒng)的比色皿，一次進樣即可得到準確的粒度分布和Zeta電位分析數據。與傳統(tǒng)的Zeta電位分析技術相比，Nanotrac wave II采用*的“Y”型光纖探針光路設計，配置膜電極產生微電場，操作簡單，測量迅速，無需精確定位由于電泳和電滲等效應導致的靜止層，無需外加大功率電場，無需更換分別用于測量粒度和Zeta電位的樣品池，*消除由于空間位阻（不同光學元器件間的傳輸損失，比色皿器壁的折射和污染，比色皿位置的差異，分散介質的影響，顆粒間多重散射等）帶來的光學信號的損失，結果準確可靠，重現(xiàn)性好。

Nanotrac wave II納米粒度及zeta電位儀技術參數：

粒度分析范圍: 0.3nm-10µm

重現(xiàn)性：誤差≤1%

濃度范圍：100ppb-40%w/v

檢測角度：180°

分析時間：30-120秒

準確性：全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子

測量精度: 無需預選，依據實際測量結果，自動生成單峰/多峰分布結果

理論設計溫度：0-90℃，可以進行程序升溫或降溫

兼容性：水相和有機相

測量原理：

粒度測量：動態(tài)光背散射技術和全量程米氏理論處理
Zeta電位測量：膜電極設計與“Y”型探頭形成微電場測量電泳遷移率
分子量測量：水力直徑或德拜曲線

光學系統(tǒng)：

3mW780nm半導體固定位置激光器，通過梯度步進光纖直接照射樣品，在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號，無需校正光

軟件系統(tǒng)：

*的Microtrac FLEX軟件提供*的數據處理能力，包括圖形，數據輸出/輸入，個性化輸出報告，及各種文字處理功能，如PDF格式輸出, Internet共享數據，Microsoft Access格式（OLE）等。體積，數量，面積及光強分布，包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計數據。數據的完整性符合21 CFR PART 11安全要求，包括口令保護，電子簽名和*等。

外部環(huán)境：

電源要求：90-240VAC，5A，50/60Hz
環(huán)境要求：溫度，10-35°C

標準：符合ISO13321，ISO13099-2:2012 和 ISO22412:2008

主要特點：
﹡采用新的動態(tài)光散射技術，引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關光譜法
﹡“Y”型光纖光路系統(tǒng)，通過藍寶石測量窗口，直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布，在加載電流的情況下，與膜電極對應產生微電場，測量同一體系的Zeta電位， 避免樣品交叉污染與濃度變化。
﹡異相多譜勒頻移技術，較之傳統(tǒng)的方法，獲得光信號強度高出幾個數量級，提高分析結果的可靠性。
﹡可控參比方法（CRM），能精細分析多譜勒頻移產生的能譜，確保分析的靈敏度。
﹡超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設計，減少了多重散射現(xiàn)象的干擾，保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。
﹡快速傅利葉變換算法（FFT，F(xiàn)ast FourierTransform Algorithm Method）,迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜，縮短分析時間。
﹡膜電極設計，避免產生熱效應，能準確測量顆粒電泳速度。
﹡無需比色皿，毛細管電泳池或外加電極池，僅需點擊Zeta電位操作鍵，一分鐘內即可得到分析結果
﹡消除多種空間位阻對散射光信號的干擾，諸如光路中不同光學元器件間傳輸的損失，樣品池位置不同帶來的誤差，比色皿器壁的折射與污染，分散介質的影響，多重散射的衰減等，提高靈敏度。