詳細(xì)介紹

PlasCalc等離子體監(jiān)測控制儀,實現(xiàn)200nm-1100nm波段內(nèi)的等離子體測量,通過高級過程控制系統(tǒng)及精密數(shù)據(jù)存取算法,只需
特點
- 光學(xué)分辨率1.0nm(FWHM)
- 光譜范圍 200-1100nm
- 快速的建模及存儲實驗方法
Recipe編輯器
Recipe編輯器有助于簡單快捷的配置、構(gòu)建及存儲實驗方法。對一些困難的等離子體工序諸如膜沉積測量、等離子體蝕刻監(jiān)測、表面潔度監(jiān)測、等離子體室控制及異常污染、排放監(jiān)測等,能夠快速簡單的構(gòu)建模塊過程控制。
多種工具用于等離子體診斷
隨PlasCalc配置的操作軟件,集成的程式編輯器能夠容易實現(xiàn)多種數(shù)學(xué)算法功能。可選的波長發(fā)生器(可以單獨購買)用于類型確認(rèn),而波長編輯器可以用于優(yōu)化信噪比。雙窗口界面用于顯示實際光譜及所有過程控制信息。
PlasCalc 配置說明
光譜范圍: | 200-1100 nm |
光學(xué)分辨率: | 1.0 nm (FWHM) |
D/A 轉(zhuǎn)換: | 14 bit |
數(shù)字I/O: | 8 x TTL |
模擬輸出: | 4 x [0-10V] |
接口: | USB 1.1 |
功耗: | 12 VDC @ |
電源: | 90-240 VAC 50/60 Hz |
尺寸: | |
重量: |
制藥網(wǎng)




LS-3000高功率鹵素?zé)艄庠?/a>

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