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離子研磨系統(tǒng)ArBlade5000 詳細(xì)摘要： 簡(jiǎn)介日立推出的ArBlade5000離子研磨系統(tǒng)具備高產(chǎn)量和廣域橫截面樣品制備能力，采用氬離子束濺射效應(yīng)進(jìn)行樣品表面拋光，避免了傳統(tǒng)機(jī)械拋光帶來(lái)的變形和機(jī)械應(yīng)力
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2025-06-22 參考價(jià)： 面議 在線(xiàn)留言 -
日立高新磁控濺射器MC1000 詳細(xì)摘要： 簡(jiǎn)介日立高新磁控濺射器(MC1000)采用電磁管電極，能有效減輕對(duì)樣品的損傷并實(shí)現(xiàn)均勻涂覆，適用于高分辨率掃描式電子顯微鏡
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日立離子研磨裝置IM4000 II 詳細(xì)摘要： 簡(jiǎn)介日立離子研磨裝置IM4000II是一款集斷面加工和平面研磨功能于一體的混合儀器，適用于高分辨成像及樣品表面特性分析
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掃描電鏡清洗設(shè)備ZONESEMⅡ 詳細(xì)摘要： 簡(jiǎn)介日立紫外清洗設(shè)備采用紫外光和臭氧對(duì)樣品表面進(jìn)行清潔，特別適用于有機(jī)污染物的去除，相較于等離子清洗更為溫和，減少對(duì)樣品的損傷
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透射電鏡臭氧清洗設(shè)備ZONETEM II 詳細(xì)摘要： 簡(jiǎn)介日立紫外清洗設(shè)備采用紫外光和臭氧對(duì)樣品表面的有機(jī)污染物進(jìn)行溫和清理，適用于樣品前處理，尤其適合透射電鏡樣品桿
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