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電子工業(yè)超純水設(shè)備的要求

電子工業(yè)超純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：

   我公司半導(dǎo)體行業(yè)用超純水出水水質(zhì)*符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn)）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

 

電子工業(yè)超純水設(shè)備的工藝流程：

1、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→產(chǎn)水(≥18MΩ.CM)

2、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲透膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥17MΩ.CM)

 

3、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)

4、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→混床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)

 

重慶沃藍(lán)水處理設(shè)備有限公司！