UV光解催化氧化技術(shù)原理

利用220V低電壓高強(qiáng)度的寬波幅光子管發(fā)出特定波段能量均衡的雙波段光（185nm、254nm）照射廢氣，裂解廢氣中如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳、苯乙烯、VOC類、苯、甲苯、二甲苯等分子結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子污染物分子鏈，在高能紫外線光束照射下裂解，氧化成小分子化合物。

利用UV高能紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡，所以需與氧氣分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

其反應(yīng)式為：

UV+O₂ → O^-+O⁺（游離氧）

O^-或O⁺+O₂ → O₃（臭氧）

運(yùn)用UV高能紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、CO₂和H₂O，再通過(guò)風(fēng)管排出。大型除臭設(shè)備安裝報(bào)價(jià)

UV光解催化氧化工藝流程

廢氣通過(guò)風(fēng)機(jī)輸送至裝置內(nèi)，在裝置產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性物質(zhì)（臭氧）和紫外線及催化劑的作用下，被迅速裂解、氧化、降解成低分子化合物、水和二氧化碳，降解產(chǎn)生的小分子及未反應(yīng)的臭氧在堿吸收化學(xué)塔中被洗滌除去，實(shí)現(xiàn)達(dá)標(biāo)排放。大型除臭設(shè)備安裝報(bào)價(jià)

UV先解催化氧化裝置

裝置為固定式全封閉箱體結(jié)構(gòu)，由裝置殼體、紫外線燈管、催化劑、電氣控制部分等組成。

等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的著火電壓時(shí)，氣體分了被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過(guò)程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低。等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的同的。

低溫等離子技術(shù)特點(diǎn)

       1、技術(shù)，工藝簡(jiǎn)潔：開(kāi)機(jī)后，即自行運(yùn)轉(zhuǎn)，受工況限制非常少，無(wú)需專人操作，除臭率可達(dá)99%。

       2、節(jié)能： 無(wú)機(jī)械設(shè)備，空氣阻力小，耗電量約為0.003kw/m3廢氣。 

       3、適應(yīng)工況范圍寬： 設(shè)備啟動(dòng)、停止十分迅速，隨用隨開(kāi)，不受氣溫的影響。在250℃以下和在霧態(tài)工況環(huán)境中均可正常運(yùn)轉(zhuǎn)。-50℃至 +50℃的環(huán)境溫度仍可正常運(yùn)轉(zhuǎn)。 

       4、設(shè)備使用壽命長(zhǎng)：本設(shè)備由不銹鋼材，銅材、鉬材、環(huán)氧 樹(shù)脂等材料組成，抗氧化，采用防腐蝕材料，電極與廢氣不直接接觸，根本上解決了設(shè)備腐蝕問(wèn)題。

       5、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單：只需用電，操作極為簡(jiǎn)單，無(wú)需派專職人員看守，基本不占用人工費(fèi)。

       6、無(wú)機(jī)械設(shè)備：故障率低，維修容易。

       7、應(yīng)用范圍廣：介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的低溫等離子體中，電子能 量高，幾乎可以將所有的異味氣體分子降解。