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NexION 300S ICP-MS 對光刻膠中的Si的分析

發(fā)布時間:2020-05-21
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  使用ICP、ICP-MS分析時存在光學(xué)干擾,而儀器的結(jié)構(gòu)又決定了Si的檢出限比其他元素更高,所以為了分析低濃度的Si,必須去除光學(xué)干擾或更換儀器進(jìn)樣系統(tǒng) ( 霧室、霧化器、中心管、炬管 )。
 
  本實驗的目的是利用NexION 的 DRC模式確定分析Si的佳條件。

提供商

珀金埃爾默企業(yè)管理(上海)有限公司

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