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　　將基線和干擾元素校正(IEC)技術(shù)與電感耦合等離子體光學(xué)發(fā)射光譜法結(jié)合使用，以校正分析信號(hào)中來(lái)自等離子體、基質(zhì)或分析物以外元素的貢獻(xiàn)。如果沒(méi)有對(duì)來(lái)自這些成分的貢獻(xiàn)進(jìn)行準(zhǔn)確校正，則會(huì)導(dǎo)致分析結(jié)果錯(cuò)誤。但是，這兩種校正技術(shù)均依賴(lài)于內(nèi)插或外推的校正因子。本文介紹了珀金埃爾默公司開(kāi)發(fā)的多譜線光譜擬合(MSF)技術(shù)。