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透射偏光熔點(diǎn)測定儀XPR-500C

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更新時間：2024-09-07 07:40:58瀏覽次數(shù)：423次

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上海蔡康光學(xué)儀器有限公司

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產(chǎn)品簡介

XPR-500型透射偏光熔點(diǎn)測定儀是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學(xué)纖維、半導(dǎo)體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關(guān)高等院校的高分子...等專業(yè)常用的專業(yè)實(shí)驗儀器?？晒V大用戶作單偏光觀察，正交偏光觀察，錐光觀察以及顯微攝影，來觀察物體在加熱狀態(tài)下的形變、色變及物體的三態(tài)轉(zhuǎn)化

詳細(xì)介紹

一、儀器的主要用途和特點(diǎn)：
XPR-500型透射偏光熔點(diǎn)測定儀是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學(xué)纖維、半導(dǎo)體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關(guān)高等院校的高分子...等專業(yè)常用的專業(yè)實(shí)驗儀器?？晒V大用戶作單偏光觀察，正交偏光觀察，錐光觀察以及顯微攝影，來觀察物體在加熱狀態(tài)下的形變、色變及物體的三態(tài)轉(zhuǎn)化。
本系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于高分子材料、聚合物材料等化工領(lǐng)域，適用于研究物體的結(jié)晶相態(tài)分析、共混相態(tài)分布、粒子分散性及尺寸測量、結(jié)晶動力學(xué)的過程記錄分析、液晶分析、織態(tài)結(jié)構(gòu)分析、熔解狀態(tài)記錄觀察分析等總多研究方向。

二、儀器的主要技術(shù)指標(biāo)：

1.顯微鏡技術(shù)參數(shù):

名稱	規(guī) 格
總放大倍數(shù)：	40X---630X
無應(yīng)力消色差物鏡	4X/0.1
	10X/0.25
	25X/0.40
	40X/0.65
	63X/0.85
目鏡	WF10X/18mm
目鏡	10X網(wǎng)格目鏡 10X分劃目鏡 10X刻度目鏡
試片	石膏1λ試片云母1/4λ試片石英楔子試片
測微尺	0.01mm
濾色片	藍(lán)色
聚光鏡	N.A.1.25帶可變光欄搖擺式聚光鏡
集光鏡	高亮度固定式照明
載物臺	直徑160mm，360°高精度等分刻度圓型旋轉(zhuǎn)載物臺，游標(biāo)格值6’，中心可調(diào)，帶鎖緊裝置移動尺:移動范圍30mm×40mm
鏡筒	45度平拉式三目觀察（52mm-75mm)
光源	鹵素?zé)簦?V/20W.AC 85V-230V）亮度可調(diào)
電腦攝像系統(tǒng)	1X攝影接口，標(biāo)準(zhǔn)C接口 CK-300數(shù)字?jǐn)z像系統(tǒng)，分辨率：2048X1536，芯片尺寸：1/2"， USB2.0連接, 圖像質(zhì)量好 ,色彩還原性好 ,圖像穩(wěn)定，有多種圖像處理方式（詳細(xì)參數(shù)見CK-300攝像機(jī)介紹）

2. 偏光熱臺的用途：

CK-400型偏光熱臺是專為材料學(xué)、生物化學(xué)、冶金學(xué)、有機(jī)化學(xué)、高分子及納米材料學(xué)而研制。與光學(xué)或電子顯微鏡配合使用，在微觀上觀察其溶化、升華、結(jié)晶過程中的狀態(tài)和各種變化。

加熱臺由精密溫度控制儀和載物恒溫工作臺二部分組成，二者由一5芯線纜插口連接，載物恒溫工作臺置于光學(xué)或電子顯微鏡載物臺上。特別適用配合偏光顯微鏡構(gòu)成偏光熔點(diǎn)測量系統(tǒng)。

三、熔點(diǎn)儀技術(shù)參數(shù):

1)輸入電源：交流170~264V 50/60HZ 2)熱臺加熱工作電源：直流 24V 5A

3)功耗：260W 4)溫度范圍：室溫——420℃

5)熱臺外體溫度：熱體400℃;室溫25℃時≤70℃ 6)工作方式：連續(xù)

7)熱體載物重量：200克 8)精度：測量精度：全范圍≤±0.5%

9)升溫速度：室溫——100℃ ≤80秒室溫——200℃ ≤300秒

10)系統(tǒng)波動度：±1℃

11)升溫速度達(dá)400℃時間: 10min

12)可設(shè)置升溫速度范圍：0.1——0.5秒/℃

13)即刻恒溫響應(yīng)時間： ≤0.01秒

14)加熱板圓盤直徑99mm；厚度12mm 15)有效加熱范圍41mm；通光孔直徑3.8mm

四、系統(tǒng)組成:

1、偏光顯微鏡XPR-500　　 2、攝像機(jī)接口

3、彩色數(shù)字?jǐn)z像機(jī)CK-300 4、偏光熱臺CK-400

關(guān)鍵詞：顯微鏡電子顯微鏡偏光顯微鏡熔點(diǎn)儀

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