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隨著半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)的迅猛發(fā)展,對(duì)超純水的純度的要求和標(biāo)準(zhǔn)也在不斷提高,特別是對(duì)于線寬較小的集成電路,幾個(gè)金屬離子或灰塵顆粒就足以報(bào)廢整個(gè)電路。作為半導(dǎo)體行業(yè)中重要的電子級(jí)化學(xué)試劑之一,超純水在半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體器件制造中得以廣泛的應(yīng)用,其生產(chǎn)制備也得到越來越多的關(guān)注。
超純水,是一般的純水處理設(shè)備很難達(dá)到的處理程度。超純水的傳統(tǒng)水處理方式中采用離子交換樹脂,其優(yōu)點(diǎn)在于初投資少,占用的地方少,但缺點(diǎn)就是需要經(jīng)常進(jìn)行離子再生,耗費(fèi)大量酸堿,而且對(duì)環(huán)境有一定的破壞性。目前市面上常見的超純水工藝中,離子交換工藝已經(jīng)被反滲透工藝取代,反滲透工藝無需樹脂再生,可實(shí)現(xiàn)24小時(shí)連續(xù)產(chǎn)水,而且制水過程中沒有廢酸廢堿的排放。萊特萊德的超純水設(shè)備中使用搭載Ryperm技術(shù)的反滲透設(shè)備,提高系統(tǒng)對(duì)于硅和硼的去除率,系統(tǒng)出水水質(zhì)更好。
萊特萊德能夠?yàn)橛脩籼峁└鼉?yōu)品質(zhì)的超純水,解決了傳統(tǒng)超純水生產(chǎn)過程中能耗大、步驟多、成本高、產(chǎn)品純度低和產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定的問題,可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化大規(guī)模生產(chǎn),工藝流程簡單、配置合理有效、處理效率高,且具有經(jīng)濟(jì)環(huán)保的優(yōu)勢(shì),確保所產(chǎn)水質(zhì)可達(dá)國標(biāo)《電子級(jí)水》和美標(biāo)《電子和半導(dǎo)體超純水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)》。
工藝流程:
原水進(jìn)水→UF裝置→一級(jí)RO→二級(jí)RO→TOC裝置→EDI系統(tǒng)→氮封系統(tǒng)→TOC裝置→脫氣系統(tǒng)→靶向離子交換→終端過濾→用水點(diǎn)
萊特萊德采用靶向離子交換系統(tǒng)針對(duì)超純水中難處理的硼及其他離子定向去除,保證出水硼離子能夠穩(wěn)定≤5ppt。系統(tǒng)集成度高,雙操作系統(tǒng),更高系統(tǒng)穩(wěn)定性。可連續(xù),穩(wěn)定地生產(chǎn)高純度的超純水,無需因樹脂再生而停機(jī)。設(shè)備日常保養(yǎng)維護(hù)簡單方便,設(shè)備耐用,壽命長。
萊特萊德專注電子超純水領(lǐng)域,是集研發(fā)設(shè)計(jì)、設(shè)備制造、工程施工、運(yùn)營維護(hù)為一體的環(huán)保解決方案服務(wù)商。


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