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萊特萊德（上海）技術有限公司
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現在我們的芯片研究已經非常迅速。從100多納米系統(tǒng)到現在的5納米制式，20倍的縮減意味著科技的進一步集中和細化。就現在5納米的工藝制程來看，這樣的芯片和我們人類現在的科技已經可以相互匹配。而隨著人類的科學的發(fā)展，新的技術新材料新的發(fā)現，才能從科學的層面更好地去推動芯片的發(fā)展，芯片發(fā)展的歷程如下：
從140納米到90納米——50納米
從90納米到48納米——42納米
從48納米到28納米——20納米
從28納米到14納米——14納米
從14納米到10納米——4納米
從10納米到7納米——3納米
從7納米到5納米——2納米
這整個過程的時間并不長，可能前前后后就是十多年的時間。但是納米的跨越卻隨著一次又一次的升級而變得越來越慢。所以可以想見的是，從5納米到3納米可能我們需要跨越的技能難關會呈指數級的提高?，F如今人們就已經開始探求各種可以替代現在技術的芯片生產設計和制造技術，比如臺積電的原子級芯片研究。
芯片作為一種高精度電子元件，對于生產用水有著極的要求，如果水質不合格就會影響芯片的電阻率，萊特萊德超純水設備生產的水質是除了水分子外，幾乎沒有什么雜質的水質，電阻率可達到18MΩ·CM，符合芯片行業(yè)用水需求，隨著芯片行業(yè)的迅速發(fā)展，超純水設備的市場前景也變得更廣闊。
超純水設備采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度。超純水系統(tǒng)設備的脫鹽核心部件為反滲透膜組件、EDI系統(tǒng)和拋光混床，超純水系統(tǒng)設備通常由預處理部分，反滲透主機部分，后處理部分共同組成，主要具有以下優(yōu)勢：
1、無需酸堿再生：在混床中樹脂需要用化學藥品酸堿再生，而EDI則消除了這些有害物質的處理和繁重的工作。保護了環(huán)境。
2、連續(xù)、簡單的操作：在混床中由于每次再生和水質量的變化，使操作過程變得復雜，而EDI的產水過程是穩(wěn)定的連續(xù)的，產水水質是恒定的，沒有復雜的操作程序，操作大大簡便化。
3、降低了安裝的要求：超純水處理設備采用積木式結構，可依據場地的高度和靈活地構造。模塊化的設計，使EDI在生產工作時能方便維護。
萊特萊德超純水設備具有抗污染能力強、節(jié)能環(huán)保、產水水質穩(wěn)定、脫鹽率高、系統(tǒng)內無死水等優(yōu)勢，出水水質符合美國ASTM D5127電子及半導體業(yè)用純水水質TypeE-1.2，高于中國國家電子級超純水標準GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標準。
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