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半導體是用水密集型產業(yè)。隨著芯片制程提高清洗步驟也相應增多,用水量會呈指數級提升。典型的8寸晶圓的生產制造每片需要消耗約2-4噸水,大于28納米制程的12寸晶圓生產制造每片需要消耗約6-7噸水;當制程達到14-28納米時每片需要消耗約18-20噸水。而晶圓廠的產能,通常是每月數萬片甚至數十萬片,耗水量可謂驚人。
據統計數據顯示,中國半導體行業(yè)吸收了27%的工業(yè)用水,且一直存在水資源利用率不高的問題。當前許多企業(yè)超純水制造工藝從原水進水到產品水出水的回收率一般都低于50%,很大地浪費了水資源,這種情況不僅增加了半導體制造單位的運行成本,還對水資源的安全性構成了威脅。

在這種情況下,半導體企業(yè)使用、處理和管理水資源變得愈加重要。許多半導體企業(yè)積極尋求與擁有循環(huán)再生解決方案的超純水企業(yè)合作,進行綠色水系統生產制造,以提升水資源利用率,降低運行成本,保障水資源安全。
作為行業(yè)超純水生產工藝技術服務商,萊特萊德積極尋求水處理的技術突破,致力為半導體制造等行業(yè)客戶提供超純水方案及裝備。
萊特萊德超純水設備配備EDI裝置搭配拋光工藝處理,運行穩(wěn)定,產水質量高,可達到18MΩ·cm。EDI設備無需酸堿再生,可以節(jié)省一定的水處理耗材,且可以節(jié)約酸堿清洗用水,同時降低了污染。該超純水設備自動化程度高,有效降低了勞動力的投入,節(jié)約了用戶生產成本,提高生產效益,整套設備性能高,使用期限長。
超純水設備在出廠時都需要對設備進行調試,所以設備故障率低,日常維護、保養(yǎng)等操作非常簡單。超純水設備的應用將純水技術提升到一個高度,為各行業(yè)的水處理提供高效技術支撐。


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