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萊特萊德（上海）技術(shù)有限公司
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晶圓是半導體和芯片的基本材料，因此晶圓的生產(chǎn)會直接影響到半導體和芯片的生產(chǎn)。而在實際生產(chǎn)晶圓過程中不僅制造難度高和流程復雜，而且生產(chǎn)過程伴隨著大量的工業(yè)廢水產(chǎn)生。那么，晶圓制造工廠是如何解決工業(yè)廢水問題的?
晶圓廢水
晶圓制造過程中會有酸堿廢水、含氨廢水、含氟廢水、研磨廢水、含銅廢水、有機廢水等工業(yè)廢水，不同的生產(chǎn)工藝從而產(chǎn)生了不同類型的工業(yè)廢水。而且這些廢水主要涉及的污染物也不同，采用的廢水處理工藝也不同。因此不能采用統(tǒng)一采用相同的污水處理站進行處理，需要按照不同的廢水類型進行分質(zhì)分流處理。
研磨是半導體工作集成電路板制造過程中晶圓全平坦化的關(guān)鍵技術(shù)，在晶圓研磨后的后續(xù)過程中運用超純水對其進行清洗產(chǎn)生很多的研磨廢水，此類廢水中含有高濃度以各種情況存在的細小的研磨含硅顆粒物、化學藥劑、超純水以及金屬離子物質(zhì)。該半導體研磨廢水的危害性是顯而易見的。
在當今水源污染損壞情況日益加劇的情況下，照應節(jié)能減排要求，怎樣利用此類廢水水質(zhì)進行充分合理有用的深度回用，緩解水資源匱乏成為一個比較急切的課題。半導體研磨廢水回用的處理方法有很多，由于半導體廢水處理技術(shù)的應用和發(fā)展，使其工藝得到不斷改進，工藝更加緊湊，處理效率得到提高。
萊特萊德廢水回用設備總回收率大于75%，廢水通過廢水回收設備實現(xiàn)了循環(huán)利用，因此可節(jié)約75%以上廢水排污費用。系統(tǒng)采用特殊膜分離新技術(shù)，工藝簡單，運行穩(wěn)定可靠，處理效率高。廢水回用設備不僅能有效地節(jié)約有限的水資源，從而減輕對水資源的消耗，緩解日趨突出的用水緊張矛盾，而且能減少污水的排放，減輕對周圍水體的污染，改善人類居住環(huán)境。
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