聯系電話
-
芯片產業(yè)得到廣泛關注,與此同時,作為芯片產業(yè)的重要配套,芯片產業(yè)水處理成為行業(yè)熱點。因為芯片生產工藝中對水質要求*,所用超純水的質量直接影響芯片效果,但超純水重復利用率不高,所以對高質量超純水需求巨大。超純水,既將水中的導電介質幾乎*去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm,或接近18.3MΩ*cm極限值。萊特萊德超純水設備采用靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除,保證出水硼離子能夠穩(wěn)定≤5ppt。系統可連續(xù),穩(wěn)定地生產高純度
-
半導體行業(yè)在生產的時候需要大量的清洗水,隨著半導體工業(yè)的不斷發(fā)展,對清洗水的電導性、離子含量、TOC、DO、Particles要求也越來越嚴格。由于半導體用超純水對多項指標的高要求,所以在半導體行業(yè),超純水不同于其他行業(yè)對水的要求,半導體行業(yè)對超純水有極為嚴格的水質要求。目前我國常用的超純水標準為國標《電子級水》(GB/T11446.1-2013)及美標《StandardGuideforUltra-PureWaterUsedintheElectronicsandSemiconductorIndu
-
據悉,各大芯片生產商的年產能并不低,芯片的供不應求主要來源于科技的蓬勃發(fā)展,電子消費品對于芯片的需求并不比汽車行業(yè)需求低,且芯片的產生過程冗長,對各項設備技術要求極為嚴格,短時間解決芯片的短缺問題依然是個難題,而如何提高芯片的成品率問題就顯得尤為重要。芯片生產過程中,幾乎每道工序都需要超純水清洗,一旦水質不合格,或者是水中含有雜質,就會降低芯片的性能,降低芯片成品率。萊特萊德超純水設備采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備及拋光混床相結合的方式來制取超純水,對比傳統的制取工藝更環(huán)保,更經濟
-
芯片短缺何解?根據業(yè)內分析師對解決全球芯片短缺時間點的預測,他們大多認為芯片短缺至少會持續(xù)到2022年,有人認為可能會持續(xù)到2023年,甚至一些專家和高管也認為,芯片短缺將在未來一段時間內正?;V髁餍酒慕回浧诓粩嘌娱L,從年初的13周延長到18周,預計今年將繼續(xù)延長。芯片超純水何解?原水經過預處理進入一級反滲透系統,此時反滲透系統出水電阻率≤20μs/cm,再經過二級反滲透系統處理,此時二級反滲透系統出水電阻率≤5μs/cm。利用反向滲透原理,可以除去原水中溶解鹽類、有機物、膠體、大分子物質等
-
近年來,經過不斷的發(fā)展和探索,人工智能取得了突破性的進展,無論是人臉識別、機器翻譯,還是交通工具、輿情監(jiān)控、智慧農業(yè)等,無不體現著人工智能的價值作為人工智能的基礎,AI智能芯片有著廣闊的發(fā)展空間和戰(zhàn)略地位?,F如今,AI智能芯片為各行各業(yè)實現信息化、智能化奠定了基礎,芯片的發(fā)展正在改變著這個世界。與此同時,芯片制造用超純水成為行業(yè)熱點,是決定芯片技術的重要組成部分。芯片行業(yè)制備超純水的傳統工藝是采用陰陽樹脂交換設備,該工藝的缺點在于樹脂在使用一段時間以后要經常再生。隨著膜分離技術的不斷成熟,萊特萊
-
超純水系統在太陽能光伏行業(yè)中的應用優(yōu)勢有哪些?下面我大家細細解說:1、不需要酸堿再生:電除鹽操作更*,廢水處理更加簡單。2、可做到連續(xù)生產:電除鹽連續(xù)生產,避免了使用混床過程中復雜的再生操作,減少了很多備用設備。3、不需要處理廢酸堿:不需要廢酸堿的中和排放處理系統。電除鹽的濃水可以直接排放或者返回到RO進口。4、安裝條件簡單:超純水系統在安裝時,占地面積小,廠房都能夠滿足,對于較低的廠房,可通過對電除鹽模塊的水平配置解決。5、系統設計簡單:超純水系統模塊設計容易把它的流量做到100噸/小時甚至更
-
電子半導體行業(yè)生產過程中對水的應用要求較高,因此大多企業(yè)都會選擇性價比較高的超純水設備。電子半導體行業(yè)超純水設備通常由多介質過濾器,活性炭過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無人值守,同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法,使該設備與其它同類產
-
精細化工行業(yè)生產過程中對水質要求較高,超純水處理系統成為企業(yè)必要選擇。下面為大家分享精細化工超純水處理系統工作原理及主要應用于哪些范圍?精細化工行業(yè)超純水處理系統工作原理:EDI模塊將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI模塊在直流電的推動下,通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統,成為濃水。超純水處理系統一般以二級反滲透純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃),EDI純水電阻

