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超純水技術助推半導體產(chǎn)業(yè)整體競爭力提升

2026-6-6  閱讀(134)

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近年來,隨著信息技術的快速發(fā)展,半導體產(chǎn)業(yè)成為了國家經(jīng)濟發(fā)展的重要支柱之一。然而,要想在全球半導體市場中獲得持續(xù)性競爭優(yōu)勢,我國需要建立半導體產(chǎn)業(yè)生態(tài)體系,加強產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈協(xié)同,提升整體競爭力。

對于半導體產(chǎn)業(yè)而言,高質(zhì)量的超純水是確保高效生產(chǎn)的基石之一。芯片清洗過程離不開超純水,超純水清洗可以讓芯片生產(chǎn)過程中的微量玷污,如灰塵、油脂、金屬離子等得到去除,從而保證芯片表面的純凈度和性能,提升芯片生產(chǎn)的良品率。對圓晶廠而言,1%良品率的提升意味著上億美元的凈利潤。而如果水質(zhì)不達標,不僅難以滿足芯片清洗需求,水中的雜質(zhì)還可能會在芯片表面殘留而影響芯片的電子性能,從而降低芯片的質(zhì)量和良率。


超純水1-1.jpg

萊特萊德超純水技術,助推半導體產(chǎn)業(yè)整體競爭力提升。萊特萊德超純水設備采用的工藝具體如下:

1.采用的反滲透工藝:利用反向滲透原理,有效除去水中溶解鹽類、有機物、膠體、大分子物質(zhì)等,降低水質(zhì)的離子含量。

2.采用的EDI模塊:無需酸堿再生,運行成本低,EDI系統(tǒng)的自動化程度很高,可以連續(xù)工作,出水水質(zhì)好且穩(wěn)定,出水電阻率≥15MΩ·CM。

3.采用的拋光混床工藝:專門用于高純度的水處理系統(tǒng)中的終端精制器,能夠?qū)⑺械碾x子含量降到低于1PPT級別,出水電阻率可達18.2MΩ·CM。

超純水作為半導體產(chǎn)業(yè)鏈的重要一環(huán),在行業(yè)中發(fā)揮著不可忽視的作用。以萊特萊德為代表的本土超純水企業(yè),一方面不斷加強技術研究,實現(xiàn)關鍵技術突破,驅(qū)動產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。另一方面加強產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈的協(xié)作,提升資源整合能力。


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