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超純水既將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水。我們根據(jù)水的電阻率來(lái)判斷水的純度，一般純水電阻率為10兆歐左右，高純水10-15兆歐，超純水電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm。

污染物是半導(dǎo)體器件性能、可靠性和良品率降低的直接原因。研究表明，沾污帶來(lái)的缺陷引起的芯片電學(xué)失效，比例高達(dá)80%。正因如此，芯片生產(chǎn)過(guò)程中需要利用超純水對(duì)硅片進(jìn)行清洗。隨著半導(dǎo)體先進(jìn)制程的推進(jìn)，光刻步驟的增加，需要清洗的步驟也進(jìn)一步增加，對(duì)超純水品質(zhì)的要求也更加嚴(yán)格。

超純水作為電子制造中常見(jiàn)水，其制造離不開(kāi)電子超純水設(shè)備。該設(shè)備可以保證電子產(chǎn)品所需超純水高質(zhì)量的產(chǎn)出，從而確保適用電子制造中硅片、半導(dǎo)體材料、晶元材料等清洗使用。

*的超純水設(shè)備需要克服工藝和工程實(shí)踐的多重挑戰(zhàn)。一般超純水設(shè)備要經(jīng)由多重過(guò)濾、離子交換、除氣、逆滲透、紫外線(xiàn)、超濾、納米濾、離子吸附過(guò)濾等多個(gè)環(huán)節(jié)才能產(chǎn)生超純水，整個(gè)制造過(guò)程中采用的工藝技術(shù)復(fù)雜而精細(xì)，不容偏差。此外，各地供應(yīng)水源中的離子含量也各有差別，為適應(yīng)供水水源的轉(zhuǎn)變并保證出水水質(zhì)，電子級(jí)超純水制備系統(tǒng)需要進(jìn)行優(yōu)化，加強(qiáng)技術(shù)聯(lián)用工藝設(shè)計(jì)與運(yùn)行，這也對(duì)超純水企業(yè)的工藝能力帶去挑戰(zhàn)。

萊特萊德超純水設(shè)備整套工藝流程包含了預(yù)處理工藝、反滲透純水工藝、超純化處理工藝以及精細(xì)處理工藝四大工藝一體，經(jīng)過(guò)多級(jí)過(guò)濾單元、高性能樹(shù)脂的離子置換、超濾過(guò)濾系統(tǒng)、紫外燈殺菌等多個(gè)單元處理之后，超純水設(shè)備的最終產(chǎn)水的電阻率最高可以達(dá)到18MΩ*cm左右，水中雜質(zhì)不但全部被去除，并且細(xì)菌微生物等物質(zhì)也不復(fù)存在，與此同時(shí)，礦物質(zhì)與微量元素也全部消除。