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半導體是用水密集型產業(yè)。隨著芯片制程提高清洗步驟也相應增多，用水量會呈指數級提升。典型的8寸晶圓的生產制造每片需要消耗約2-4噸水，大于28納米制程的12寸晶圓生產制造每片需要消耗約6-7噸水；當制程達到14-28納米時每片需要消耗約18-20噸水。而晶圓廠的產能，通常是每月數萬片甚至數十萬片，耗水量可謂驚人。

據統(tǒng)計數據顯示，中國半導體行業(yè)吸收了27%的工業(yè)用水，且一直存在水資源利用率不高的問題。當前許多企業(yè)超純水制造工藝從原水進水到產品水出水的回收率一般都低于50%，很大地浪費了水資源，這種情況不僅增加了半導體制造單位的運行成本，還對水資源的安全性構成了威脅。

在這種情況下，半導體企業(yè)使用、處理和管理水資源變得愈加重要。許多半導體企業(yè)積極尋求與擁有循環(huán)再生解決方案的超純水企業(yè)合作，進行綠色水系統(tǒng)生產制造，以提升水資源利用率，降低運行成本，保障水資源安全。

作為行業(yè)超純水生產工藝技術服務商，萊特萊德積極尋求水處理的技術突破，致力為半導體制造等行業(yè)客戶提供超純水方案及裝備。

萊特萊德超純水設備配備EDI裝置搭配拋光工藝處理，運行穩(wěn)定，產水質量高，可達到18MΩ·cm。EDI設備無需酸堿再生，可以節(jié)省一定的水處理耗材，且可以節(jié)約酸堿清洗用水，同時降低了污染。該超純水設備自動化程度高，有效降低了勞動力的投入，節(jié)約了用戶生產成本，提高生產效益，整套設備性能高，使用期限長。

超純水設備在出廠時都需要對設備進行調試，所以設備故障率低，日常維護、保養(yǎng)等操作非常簡單。超純水設備的應用將純水技術提升到一個高度，為各行業(yè)的水處理提供高效技術支撐。