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簡(jiǎn)單介紹：加熱制冷循環(huán)器MGD20-12，容積12L，-20℃～180℃（高至溫度195℃），為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制，對(duì)反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用

簡(jiǎn)單介紹：加熱制冷循環(huán)器（-20℃～180℃）實(shí)現(xiàn)高溫195℃，低溫-20℃恒溫測(cè)試，為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制，對(duì)反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用

簡(jiǎn)單介紹：高低溫恒溫槽（-40℃～180℃）
高低溫恒溫槽實(shí)現(xiàn)高溫195℃，低溫-40℃恒溫測(cè)試，為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃， 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制，對(duì)反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。

簡(jiǎn)單介紹：加熱制冷循環(huán)器MDG20-20實(shí)現(xiàn)高溫195℃，低溫-20℃恒溫測(cè)試，為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃， 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制，對(duì)反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。