單晶硅等硅材料、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、需用大量的高純水、較純水清洗半成品、成品。目前對其清洗和生產(chǎn)的水質(zhì)精度要求都比較高，電阻度一般要求大于10兆歐/厘米；

其主要工藝如下：

1、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床（復(fù)床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

2、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進行搭配的的方式，這是一種制取較純水的較新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮妮^純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點