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HIPIMS系列脈沖磁控濺射多功能鍍膜設(shè)備高功率脈沖磁控濺射（HIPIMS）野馬真空系統(tǒng)（MVS）有在產(chǎn)業(yè)規(guī)模PVD沉積室，包括大面積HIPIMS陰極能夠提供廣泛的增強(qiáng)部件的耐磨性和性能的結(jié)構(gòu)的硬盤(pán)，摩擦學(xué)涂料生產(chǎn)的重要經(jīng)驗(yàn)
| HIPIMS系列脈沖磁控濺射多功能鍍膜設(shè)備 |
高功率脈沖磁控濺射（HIPIMS）
野馬真空系統(tǒng)（MVS）有在產(chǎn)業(yè)規(guī)模PVD沉積室，包括大面積HIPIMS陰極能夠提供廣泛的增強(qiáng)部件的耐磨性和性能的結(jié)構(gòu)的硬盤(pán)，摩擦學(xué)涂料生產(chǎn)的重要經(jīng)驗(yàn)。
在2005年和2007年，MVS是在北美的個(gè)商業(yè)組織接受和使用電源（Chemfilt / SINEX的Huettinger）工業(yè)HIPIMS濺射應(yīng)用。 自該日起顯著的進(jìn)步和研發(fā)，導(dǎo)致其日常規(guī)范中的各種金屬和陶瓷的商業(yè)涂料應(yīng)用。
該技術(shù)適用于非常高的功率密度的脈沖（> 1000Wcm -2，可選擇的脈沖持續(xù)時(shí)間50-200μS和100-500Hz的頻率）的磁控管陰極產(chǎn)生異常高的等離子密度為10 19米-3或更大的順序。 這種脈沖的功率密度可以顯著更高水平電離（最多約80％）比通常出現(xiàn)在常規(guī)的磁控濺射工藝（約1-2％）釋放的靶表面的金屬物種。
樓盤(pán)，等Helmersson固體薄膜，513，1-2，2006，1-24。
這些特性可以被用于產(chǎn)生顯著的變化，膜的密度和優(yōu)選的生長(zhǎng)方向/方位。 HIPIMS薄膜表現(xiàn)出非常光滑的表面，而不創(chuàng)造過(guò)量輻射采暖或宏觀粒子摻入通常使用時(shí)如發(fā)現(xiàn)電弧蒸發(fā)源。 這導(dǎo)致致密，粘附膜，即使在非常低的襯底溫度是從宏觀生長(zhǎng)缺陷。
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