【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備，?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。側(cè)墻刻蝕單通道chiller 涂布和顯影工序制冷

無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導(dǎo)體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備，

?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。

半導(dǎo)體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品：

半導(dǎo)體專溫控設(shè)備

射流式?低溫沖擊測試機

半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風控溫裝置

半導(dǎo)體?低溫測試設(shè)備

電?設(shè)備?溫低溫恒溫測試冷熱源

射流式高低溫沖擊測試機

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案

側(cè)墻刻蝕單通道chiller 涂布和顯影工序制冷

側(cè)墻刻蝕單通道chiller 涂布和顯影工序制冷

半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備（Chiller）主要用于半導(dǎo)體制造過程中準確控制反應(yīng)室的溫度。半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備利用制冷循環(huán)和工藝冷卻水的熱交換原理通過對半導(dǎo)體工藝設(shè)備使用的循環(huán)液的溫度、流量和壓力進行控制，以實現(xiàn)半導(dǎo)體工藝制程的控溫需求，是集成電路制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備。

半導(dǎo)體行業(yè)控溫解決方案-溫控系統(tǒng)

?錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司是?家集研發(fā)、?產(chǎn)和銷售為?體的?端裝 備制造企業(yè)，主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等專?設(shè)備，?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。

Chiller直冷型

溫度控制范圍：-150℃ 至 -15℃

將制冷系統(tǒng)中的制冷劑直接輸出蒸發(fā)進??標控制元件（換熱器）換熱，從?使?標控制對象降溫。具備換熱能?相對于流體（?體）輸送?換熱器換熱能?更??般在5倍以上，這樣特別適?于換熱器換熱?積?，但是換熱量?的運?場所。也可以如?體捕集運?，將制冷劑直接通?捕集器蒸發(fā)，通過捕集器表?冷凝效應(yīng)，迅速捕集空間中的?體。

循環(huán)風控溫裝置

溫度控制范圍：-105℃ 至+125℃

運?于半導(dǎo)體設(shè)備?低溫測試。電?設(shè)備?溫低溫恒溫測試冷熱源；獨?的制冷循環(huán)?機組；

可連續(xù)?時間?作，?動除霜，除霜過程不影響庫溫；模塊化設(shè)計，備?機替換容易（只要?臺備?機組即可）；

解決頻繁開關(guān)?，蒸發(fā)系統(tǒng)結(jié)霜問題；蒸發(fā)系統(tǒng)除霜過程不影響。

射流式高低溫沖擊測試機

射流式高低溫沖擊測試機給芯片、模塊、集成電路板、電子元器件等提供準確且快速的環(huán)境溫度。是對產(chǎn)品電性能測試、失效分析、可靠性評估的儀器設(shè)備。

溫度控制范圍：-120℃ 至+300℃，升降溫速率??？焖伲?50℃?-55℃＜10秒，zui??流量：30m3/h；

實時監(jiān)控被測IC真實溫度,實現(xiàn)閉環(huán)反饋，實時調(diào)整?體溫度升降溫時間可控，程序化操作、?動操作、遠程控制

測試條件：環(huán)境溫度20℃，30m3/h，5Bar,壓縮空?或氮?可定制100m3/h?體流量快速沖擊測試機，?于滿?較?測試功率需求

快速溫變控溫卡盤

該產(chǎn)品可以實現(xiàn)快速溫度變化，準確控制溫度。系統(tǒng)本??帶制冷機，避免了液氮、?氧化碳等的消耗，每個系統(tǒng)均包含了卡盤和冷熱控制單元。

系統(tǒng)提供開放的表?平整?作平臺，快速升降溫、恒溫控制，運?于RF器件和?密度功率器件測試，也可以運?于實驗室平板快速冷卻（?物制品、電池）等平板內(nèi)部采?制冷劑直接蒸發(fā)?式，相對液冷?式?幅度提?了換熱效率，提?單位?積平板的換熱功率。