[無錫冠亞] 加熱制冷循環(huán)裝置高低溫控溫方案原理和難題，制冷加熱循環(huán)裝置的應用：高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制；微通道反應器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試；組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

 

型號		SUNDI-655WV	SUNDI-675WV	SUNDI-6A10WV	SUNDI-6A15WV	SUNDI-6A25WV
介質(zhì)溫度范圍		-60℃～+300℃ (系統(tǒng)加壓3BAR)
控制系統(tǒng)		前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器
溫控模式選擇		物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制		設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯		可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議		MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋		PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100)
溫度反饋		設備導熱介質(zhì) 進口溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度
導熱介質(zhì)溫控精度		±0.5℃
反應物料溫控精度		±1℃
加熱功率 kW		5.5	7.5	10	15	25
制冷量 kW  AT	300℃	5.5	7.5	10	15	25
	100℃	5.5	7.5	10	15	25
	20℃	5.5	7.5	10	15	25
	-20℃	4.8	6	8.2	12	25
	-40℃	2.3	3.1	4.8	7.8	18
	-55℃	0.75	0.9	1.5	2.8	6
流量壓力 max  L/min bar		35	50	60	110	150
		2	2	2.5	2.5	2.5
循環(huán)泵		冠亞磁力驅(qū)動泵
壓縮機		法國泰康活塞壓縮機		意大利都凌/卡萊爾/艾默生
膨脹閥		丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
蒸發(fā)器		丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板		7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄
安全防護		具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)		整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質(zhì)。
制冷劑		R-404A/R23混合制冷劑
接口尺寸		G3/4	G1	G1	G1	DN32 PN10
水冷型 W 溫度 20度		1800L/H 1.5bar~4bar G3/4	2100L/H 1.5bar~4bar G3/4	3000L/H 1.5bar~4bar G1	4000L/H 1.5bar~4bar G1 1/8	8.5m³/H 1.5bar~4bar DN40
外形尺寸 cm		55*100*175	55*100*175	70*100*175	80*120*185	100*150*185
重量kg		265	305	340	380	980
電源 380V50HZ		10kW	14kW	18kW	26kW	40kW

 

 

加熱制冷循環(huán)裝置高低溫控溫方案原理和難題

加熱制冷循環(huán)裝置高低溫控溫方案原理和難題

    加熱制冷循環(huán)裝置是針對反應釜、反應器、反應罐等進行流體制冷加熱控溫的設備，目前市面上的廠家比較多，那么加熱制冷循環(huán)裝置的控溫原理以及工藝大家都了解多少呢？

　　反應釜或者反應器在進行制冷加熱控溫的時候，配套的加熱制冷循環(huán)裝置進行控溫達到預期的溫度范圍，這整個過程會使得產(chǎn)生一定的化學反應，產(chǎn)生熱量，這個反應過程容易被外界所影響，所以，加熱制冷循環(huán)裝置的放置環(huán)境比較重要，建議選擇通風陰涼的靠譜房間放置。

　　加熱制冷循環(huán)裝置配套的反應釜在進行聚合反應的，會出現(xiàn)一系列的放熱反應以及吸熱反應，在進行化學反應的時候，建議周圍操作人員不要太靠近，避免產(chǎn)生一定的麻煩。在進行反應的過程中，如果熱量不及時排除，會影響反映得壓力，如果壓力太高會使得整個反應處于一定的危險。

　　加熱制冷循環(huán)裝置可以配套不同容積大小的反應釜進行制冷加熱控溫，由于不同大小的反應釜帶來的熱容量不同，所以其吸熱或者放熱的能力也不同，因此，加熱制冷循環(huán)裝置的選型需要提供準確反應釜大小、溫度要求、材質(zhì)等工況要求給加熱制冷循環(huán)裝置廠家進行選型，避免選型或大或小導致設備達不到預期的溫度要求。

加熱制冷循環(huán)裝置可以同時控制一臺或者多臺反應釜，是一種集成控溫的大系統(tǒng)裝置，可以根據(jù)工況要求進行生產(chǎn)。