實(shí)驗(yàn)室高低溫循環(huán)裝置提供恒溫反應(yīng)過程，制冷加熱循環(huán)裝置的應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制；微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試；組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

 

型號(hào)		SUNDI-655WV	SUNDI-675WV	SUNDI-6A10WV	SUNDI-6A15WV	SUNDI-6A25WV
介質(zhì)溫度范圍		-60℃～+300℃ (系統(tǒng)加壓3BAR)
控制系統(tǒng)		前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器
溫控模式選擇		物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制		設(shè)備出口溫度與反應(yīng)物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定
程序編輯		可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議		MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋		PT100或4～20mA或通信給定（默認(rèn)PT100)
溫度反饋		設(shè)備導(dǎo)熱介質(zhì) 進(jìn)口溫度、出口溫度、反應(yīng)器物料溫度（外接溫度傳感器）三點(diǎn)溫度
導(dǎo)熱介質(zhì)溫控精度		±0.5℃
反應(yīng)物料溫控精度		±1℃
加熱功率 kW		5.5	7.5	10	15	25
制冷量 kW  AT	300℃	5.5	7.5	10	15	25
	100℃	5.5	7.5	10	15	25
	20℃	5.5	7.5	10	15	25
	-20℃	4.8	6	8.2	12	25
	-40℃	2.3	3.1	4.8	7.8	18
	-55℃	0.75	0.9	1.5	2.8	6
流量壓力 max  L/min bar		35	50	60	110	150
		2	2	2.5	2.5	2.5
循環(huán)泵		冠亞磁力驅(qū)動(dòng)泵
壓縮機(jī)		法國泰康活塞壓縮機(jī)		意大利都凌/卡萊爾/艾默生
膨脹閥		丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
蒸發(fā)器		丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板		7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄
安全防護(hù)		具有自我診斷功能；冷凍機(jī)過載保護(hù)；高壓壓力開關(guān)，過載繼電器、熱保護(hù)裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)		整個(gè)系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時(shí)不會(huì)有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運(yùn)行中不會(huì)因?yàn)楦邷厥箟毫ι仙?，低溫自?dòng)補(bǔ)充導(dǎo)熱介質(zhì)。
制冷劑		R-404A/R23混合制冷劑
接口尺寸		G3/4	G1	G1	G1	DN32 PN10
水冷型 W 溫度 20度		1800L/H 1.5bar~4bar G3/4	2100L/H 1.5bar~4bar G3/4	3000L/H 1.5bar~4bar G1	4000L/H 1.5bar~4bar G1 1/8	8.5m³/H 1.5bar~4bar DN40
外形尺寸 cm		55*100*175	55*100*175	70*100*175	80*120*185	100*150*185
重量kg		265	305	340	380	980
電源 380V50HZ		10kW	14kW	18kW	26kW	40kW

 

實(shí)驗(yàn)室高低溫循環(huán)裝置提供恒溫反應(yīng)過程

實(shí)驗(yàn)室高低溫循環(huán)裝置提供恒溫反應(yīng)過程

　　化工行業(yè)中反應(yīng)釜控溫方式一般有反應(yīng)釜電加熱、油溫機(jī)加熱。由于反應(yīng)釜油溫機(jī)是導(dǎo)熱油為傳熱介質(zhì)，溫度均勻，不會(huì)造成直局部溫差，所以現(xiàn)在普遍使用的電加熱較為多一些。

　　實(shí)驗(yàn)室高低溫循環(huán)裝置是一種制藥化工行業(yè)常用的熱能轉(zhuǎn)換設(shè)備，是以電為能源，將電能轉(zhuǎn)換為熱能進(jìn)行加熱，以導(dǎo)熱油為傳熱介質(zhì)，通過高溫油泵將導(dǎo)熱油在系統(tǒng)中進(jìn)行循環(huán)，重復(fù)進(jìn)行加熱，以此用來達(dá)到反應(yīng)釜工藝需要熱能的目的，滿足生產(chǎn)過程中所需溫度的要求及準(zhǔn)確控制溫度等要求。

　　實(shí)驗(yàn)室高低溫循環(huán)裝置設(shè)備體積小，占地少可安裝在用熱設(shè)備附近，使用PC面板或者PLC人機(jī)界面，操作簡單，有多項(xiàng)靠譜保護(hù)系統(tǒng)，靠譜方便。加熱溫度可預(yù)先設(shè)定，PID控溫精度高，升溫速度快。

實(shí)驗(yàn)室高低溫循環(huán)裝置可以根據(jù)不同原料的反應(yīng)溫度和工藝要求，定制不同的溫度控制設(shè)備（分段控溫、定時(shí)開關(guān)機(jī)、可自帶冷卻功能、遠(yuǎn)程控制)，廣泛應(yīng)用于石油、化工、橡膠、農(nóng)藥、染料、醫(yī)藥、食品等生產(chǎn)型用戶和各種科研實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目的研究，用來完成水解、中和、結(jié)晶、蒸餾、蒸發(fā)、儲(chǔ)存、氫化、烴化、聚合、縮合、加熱混配、恒溫反應(yīng)等工藝過程。