TCU高低溫循環(huán)裝置安裝需要注意的問題，制冷加熱循環(huán)裝置的應(yīng)用：高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制；微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制、小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測(cè)試；組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。

 

型號(hào)		SUNDI-655WV	SUNDI-675WV	SUNDI-6A10WV	SUNDI-6A15WV	SUNDI-6A25WV
介質(zhì)溫度范圍		-60℃～+300℃ (系統(tǒng)加壓3BAR)
控制系統(tǒng)		前饋PID ,無(wú)模型自建樹算法，PLC控制器
溫控模式選擇		物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制		設(shè)備出口溫度與反應(yīng)物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定
程序編輯		可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議		MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋		PT100或4～20mA或通信給定（默認(rèn)PT100)
溫度反饋		設(shè)備導(dǎo)熱介質(zhì) 進(jìn)口溫度、出口溫度、反應(yīng)器物料溫度（外接溫度傳感器）三點(diǎn)溫度
導(dǎo)熱介質(zhì)溫控精度		±0.5℃
反應(yīng)物料溫控精度		±1℃
加熱功率 kW		5.5	7.5	10	15	25
制冷量 kW  AT	300℃	5.5	7.5	10	15	25
	100℃	5.5	7.5	10	15	25
	20℃	5.5	7.5	10	15	25
	-20℃	4.8	6	8.2	12	25
	-40℃	2.3	3.1	4.8	7.8	18
	-55℃	0.75	0.9	1.5	2.8	6
流量壓力 max  L/min bar		35	50	60	110	150
		2	2	2.5	2.5	2.5
循環(huán)泵		冠亞磁力驅(qū)動(dòng)泵
壓縮機(jī)		法國(guó)泰康活塞壓縮機(jī)		意大利都凌/卡萊爾/艾默生
膨脹閥		丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
蒸發(fā)器		丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板		7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄
安全防護(hù)		具有自我診斷功能；冷凍機(jī)過(guò)載保護(hù)；高壓壓力開關(guān)，過(guò)載繼電器、熱保護(hù)裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)		整個(gè)系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時(shí)不會(huì)有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運(yùn)行中不會(huì)因?yàn)楦邷厥箟毫ι仙蜏刈詣?dòng)補(bǔ)充導(dǎo)熱介質(zhì)。
制冷劑		R-404A/R23混合制冷劑
接口尺寸		G3/4	G1	G1	G1	DN32 PN10
水冷型 W 溫度 20度		1800L/H 1.5bar~4bar G3/4	2100L/H 1.5bar~4bar G3/4	3000L/H 1.5bar~4bar G1	4000L/H 1.5bar~4bar G1 1/8	8.5m³/H 1.5bar~4bar DN40
外形尺寸 cm		55*100*175	55*100*175	70*100*175	80*120*185	100*150*185
重量kg		265	305	340	380	980
電源 380V50HZ		10kW	14kW	18kW	26kW	40kW

TCU高低溫循環(huán)裝置安裝需要注意的問題

TCU高低溫循環(huán)裝置安裝需要注意的問題

　　使用300℃高低溫循環(huán)一體機(jī)離不開其規(guī)范的使用操作，300℃高低溫循環(huán)一體機(jī)在銷售時(shí)會(huì)與設(shè)備出廠時(shí)相應(yīng)的300℃高低溫循環(huán)一體機(jī)使用說(shuō)明書相對(duì)應(yīng)，用戶在使用時(shí)可事先了解下。

　　高低溫300℃循環(huán)一體機(jī)能實(shí)現(xiàn)200℃高溫、-20℃低溫恒溫測(cè)試，為用戶提供熱冷卻受控、恒溫均勻的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，全量程范圍內(nèi)的溫度控制，應(yīng)用于石化、制藥等化學(xué)反應(yīng)過(guò)程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散過(guò)程控制，在反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取和冷凝裝置中的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置廣泛應(yīng)用于各種實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備進(jìn)行制冷加熱控溫使用，如：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、X射線衍射儀、ICP發(fā)射光譜儀、ICP質(zhì)譜儀、石墨爐原子吸收光譜儀、熒光分析儀、電子顯微鏡、生產(chǎn)試驗(yàn)設(shè)備、數(shù)控機(jī)床、激光設(shè)備等。該機(jī)為一體式設(shè)備，冷凝器-壓縮機(jī)、蒸發(fā)器-循環(huán)水泵機(jī)組均安裝在同一機(jī)箱內(nèi)，此類機(jī)組一般安裝在室內(nèi)。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置以冷卻劑作為傳熱介質(zhì)，將其他需要冷卻的儀器或設(shè)備產(chǎn)生的熱量輸送出去，通過(guò)制冷系統(tǒng)將熱量送到設(shè)備外部，確保設(shè)備在正常溫度范圍內(nèi)工作。該裝置和儀表之間依靠裝置內(nèi)泵的壓力形成閉式介質(zhì)循環(huán)，通過(guò)溫度傳感器檢測(cè)介質(zhì)溫度，實(shí)現(xiàn)冷卻器的控制。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置應(yīng)安裝在環(huán)境良好的實(shí)驗(yàn)室內(nèi)；無(wú)錫冠亞TCU高低溫循環(huán)裝置應(yīng)安裝在通風(fēng)良好、無(wú)塵的穩(wěn)固地面或?qū)嶒?yàn)臺(tái)面上，避免飛沫、多蒸氣及可能發(fā)生流入、流滯、泄漏氣體的地方，避免靠近可產(chǎn)生高頻設(shè)備的地方(高頻電焊機(jī)等)。

TCU高低溫循環(huán)裝置在避免頻繁使用酸性溶液和頻繁使用特殊噴霧器(含硫化物等)的情況下，從維護(hù)和安裝時(shí)的方便和方面考慮，應(yīng)盡量確保在室內(nèi)機(jī)和障礙物之間有足夠的空間。