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　　一套完整的低溫真空蒸餾設(shè)備一般由蒸餾塔、再沸器、冷凝冷卻器、回流罐、物料泵、產(chǎn)品儲(chǔ)罐等部分組成，也可能是其中兩個(gè)或幾個(gè)部分的組合。簡(jiǎn)單蒸餾系統(tǒng)通常是由蒸餾釜及其加熱裝置、冷凝冷卻器及受液槽組成。釜式蒸餾的加熱裝置有釜外夾套式，釜內(nèi)盤(pán)管式，有些物料還采用釜外直接火加熱式或電熱式。

　　在使用無(wú)錫冠亞低溫真空蒸餾設(shè)備的時(shí)候需要注意，蒸餾的物料，絕大多數(shù)有一定的危險(xiǎn)，蒸餾過(guò)程中，還涉及系統(tǒng)（設(shè)備）內(nèi)壓力的變化。因此，低溫真空蒸餾設(shè)備要注意蒸餾釜底的殘留物，特別是間歇蒸餾過(guò)程的殘留物，如果是高沸點(diǎn)、高粘度、高溫下容易分解或發(fā)生聚合反應(yīng)的成分復(fù)雜的混合物，易在高溫下發(fā)生熱分解、自聚。高溫下操作的低溫真空蒸餾設(shè)備內(nèi)，如進(jìn)入冷水或其他低沸點(diǎn)物質(zhì)，瞬間會(huì)引起大量氣化造成設(shè)備內(nèi)壓力驟升，導(dǎo)致容器事故。蒸餾凝固點(diǎn)較高的物質(zhì)，設(shè)備的出口管道被凝結(jié)、堵塞，會(huì)造成設(shè)備內(nèi)壓力升高，發(fā)生容器故障。蒸餾過(guò)程中一旦存在高、低溫物料，防護(hù)不當(dāng)則造成燙傷或凍傷。

低溫真空蒸餾設(shè)備連續(xù)蒸餾一般操作比較復(fù)雜，輔助設(shè)備多，蒸餾過(guò)程某一控制指標(biāo)或某一操作環(huán)節(jié)出現(xiàn)偏差，都會(huì)影響整個(gè)蒸餾系統(tǒng)的平衡，導(dǎo)致事故發(fā)生。如果蒸餾溫度過(guò)高，有造成超壓爆炸、泛液、沖料、過(guò)熱分解及自燃的危險(xiǎn)；若溫度過(guò)低，則有風(fēng)險(xiǎn)。若加料量超負(fù)荷，對(duì)于塔式蒸餾，則可使氣化量增大，使未冷凝的蒸汽進(jìn)入受液槽，導(dǎo)致槽體超壓爆炸。當(dāng)回流量增大時(shí)，不但會(huì)降低體系內(nèi)的操作溫度，而且容易出現(xiàn)淹塔致使操作失控。