我公司研制的滑軌式PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象。該款設(shè)備是全自動Plasma增強(qiáng)CVD系統(tǒng)（PECVD），系統(tǒng)可以實現(xiàn)連續(xù)滑動溫區(qū)，連續(xù)可控制溫度及Plasma強(qiáng)度。PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中：

1、電子密度高10⁹-10¹²cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù)。

2、通過反應(yīng)氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征，從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點，工藝流程簡單