我公司研制的滑軌式PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現象。該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(tǒng)（PECVD），系統(tǒng)可以實現連續(xù)滑動溫區(qū)，連續(xù)可控制溫度及Plasma強度。PECVD是借助于輝光放電等方法產生等離子體，輝光放電等離子體中：

1、電子密度高10⁹-10¹²cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，使含有薄膜組成的氣態(tài)物質發(fā)生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術。

2、通過反應氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點，工藝流程簡單