銀漿研磨分散機，納米銀漿研磨分散機，銀漿高速分散機，銀漿管線式研磨分散機，銀漿膠體磨，IKN銀漿研磨分散設備采用*的結構設計將傳統的膠體磨和分散機合二為一，并配合超高速的轉速，zui高轉速可達14000rpm，研磨分散效果更佳。

銀漿系由高純度的(99.9% )金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料。導電銀漿對其組成物質要求是十分嚴格的。其品質的高低、含量的多少，以及形狀、大小對銀漿性能都有著密切關系。銀粉的分散效果直接關系到銀漿的質量。所以采用好的分散設備對銀粉的分散是至關重要的，當然分散劑的應用也是*的。

納米銀漿分散混合設備，納米銀粉分散，銀粉比表面積較大，易發(fā)生團聚很難分散，如何將銀粉制成銀漿？銀漿的制備，炭黑的制備，銀粉的分散，炭黑的分散，高剪切分散機可幫您解決此類難題。結合客戶實驗案例，采用IKN研磨分散機進行銀粉處理，不僅生產效率快，一般研磨5-10遍即可；而且這種方式相對于三輥機以及砂磨機而言，物料損失更小。
                                
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CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
       

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

 
CMD2000系列研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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