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武漢市專用GMP制藥純化水設備

參   考   價: 90000

訂  貨  量: ≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號

品       牌濱潤

廠商性質生產商

所  在  地武漢市

更新時間:2026-05-09 08:55:08瀏覽次數(shù):133次

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江福林

項目經理
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產地 國產 產品新舊 全新
武漢市專用GMP制藥純化水設備整體采用SUS304L或SUS316L全衛(wèi)生級不銹鋼材質,管路內壁做拋光處理避免微生物殘留,用水點前必須配置紫外線、臭氧或巴氏消毒裝置。核心工藝一般采用預處理+雙級反滲透/反滲透+EDI組合,可深度去除水中雜質、離子、微生物,產水符合《中國藥典》等主流藥典的純化水指標要求

武漢市專用GMP制藥純化水設備整體采用SUS304L或SUS316L全衛(wèi)生級不銹鋼材質,管路內壁做拋光處理避免微生物殘留,用水點前必須配置紫外線、臭氧或巴氏消毒裝置。核心工藝一般采用預處理+雙級反滲透/反滲透+EDI組合,可深度去除水中雜質、離子、微生物,產水符合《中國藥典》等主流藥典的純化水指標要求

一。武漢市專用GMP制藥純化水設備的核心要求

根據《藥品生產質量管理規(guī)范(2010年修訂)》,制藥廠純化水設備需要滿足全流程的合規(guī)要求:

基礎設計要求:設備主體和循環(huán)管路必須采用無毒耐腐蝕的316L不銹鋼材質,管路設計坡度>1%方便排空,避免死角、盲管(死角需滿足L/D≤3要求),維持循環(huán)流速≥1.5m/s防止生物膜滋生。

驗證與追溯要求:設備必須支持IQ(安裝確認)、OQ(運行確認)、PQ(性能確認)的3Q驗證,同時實時記錄水溫、電導率、流量等關鍵參數(shù),滿足可追溯性要求。

防污染要求:純化水需動態(tài)循環(huán)儲存,非用水時段保持水流循環(huán),配備巴氏消毒、紫外線消毒或臭氧消毒裝置,防止微生物滋生。

水質指標要求:必須符合《中國藥典》標準:25℃下電導率≤1.3μS/cm,微生物限度≤100 CFU/mL,TOC(總有機碳)≤500ppb。

二、符合GMP規(guī)范的典型工藝流程

主流工藝根據產水需求靈活組合,常見路線如下: 標準工藝流程:原水→原水箱→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透→PH調節(jié)→中間水箱→二級反滲透→純化水箱→純水泵→殺菌裝置→微孔過濾器→用水點,針對更高水質需求可在雙級反滲透后增加EDI單元:

預處理單元:多介質過濾器填充石英砂、無煙煤,去除水中懸浮物、泥沙降低濁度;活性炭過濾器吸附余氯、有機物,保護反滲透膜不被氧化;軟水器通過離子交換降低水硬度,防止管道、膜元件結垢;5μm精密過濾器截留大顆粒雜質,保障反滲透進水安全。

核心制水單元:雙級反滲透為核心工藝,一級反滲透脫鹽率可達98%以上,截留細菌、有機物、離子;二級反滲透進一步提升水質,產水電阻率可達1-5MΩ·cm(25℃);可選EDI單元,通過電場連續(xù)去除離子,無需酸堿再生,產水電阻率可達15-18MΩ·cm,滿足注射用水前處理要求。

后處理殺菌單元:采用臭氧+紫外線協(xié)同滅菌,臭氧氧化破壞微生物結構,254nm紫外線進一步滅菌并分解殘留臭氧,最后經0.22μm微孔過濾器終端過濾后輸送至用水點。

三、GMP級純化水設備的技術特點

合規(guī)的制藥純化水設備通常具備以下特性:

模塊化標準化設計:采用預處理、反滲透、殺菌、供水模塊化結構,符合藥典與GMP規(guī)范,方便安裝維修,也可根據原水水質與產水量靈活調整方案,控制投入成本。

全自動智能化控制:整套系統(tǒng)PLC全自動控制,可自動完成產水、反沖、清洗、消毒流程,配備在線水質監(jiān)測系統(tǒng)實時監(jiān)控電導率、TOC等參數(shù),超標自動排放,同時具備高低壓保護、無水停機等安全功能,降低人工操作強度,保障水質穩(wěn)定。

節(jié)能環(huán)保設計:優(yōu)化膜排列提升水利用率,整體水利用率可達80%以上,EDI工藝無需酸堿再生,減少危廢排放與運行成本,符合環(huán)保要求。

全流程可追溯管理:自動記錄設備運行與水質數(shù)據,支持導出查詢,滿足GMP對數(shù)據完整性與變更管理的要求,方便認證檢查。

四、設備日常維護的GMP合規(guī)要點

為持續(xù)符合GMP要求,日常維護需要做好這些工作:

定期更換預處理濾料、精密過濾器濾芯,按照規(guī)范對系統(tǒng)進行消毒,記錄消毒參數(shù)與效果。

定期取樣送檢,檢測微生物、內毒素等離線指標,對比在線監(jiān)測數(shù)據,確保水質持續(xù)達標。

按照周期進行系統(tǒng)再驗證,設備發(fā)生重大改造后需要重新完成IQ/OQ/PQ驗證。

完整保存操作、維護、檢測記錄,建立設備全生命周期檔案,滿足合規(guī)檢查要求。



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