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上海喆圖科學儀器有限公司
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產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
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更新時間:2026-08-29 07:18:50瀏覽次數(shù):66次
聯(lián)系我時,請告知來自 制藥網(wǎng)產(chǎn)品描述:極域 真空 鍍膜 系統(tǒng) 用途概述 極域真空鍍膜系統(tǒng)以真空性能與全域工藝覆蓋為內(nèi)核,成為半導(dǎo)體、光學、新能源等制造領(lǐng)域的設(shè)備,助力客戶突破鍍膜技術(shù)瓶頸,實現(xiàn)高精度、高...
| 極 | 高真空/低真 空精準控制 | 1.極限真空,象征對真空環(huán)境的高精度控制能力; 2.性能,核心參數(shù)(鍍膜均勻性、工藝穩(wěn)定性等)達行業(yè)。 |
| 域 | 溫度、壓力 | 1.工藝可控域:精密調(diào)控溫度場、壓力梯度等工藝參數(shù); 2.技術(shù)覆蓋域:兼容蒸發(fā)、濺射、離子鍍等多種鍍膜技術(shù),適配多樣化生產(chǎn)。 |
| 應(yīng)用場景 | 半導(dǎo)體制造 | 1.工藝可控域:精密調(diào)控溫度場、壓力梯度等; 2.技術(shù)覆蓋域:兼容多種鍍膜技術(shù),適配多樣化生產(chǎn)。 |
| 光學器件鍍膜 | 1.光學鏡頭抗反射膜(AR)、紅外濾光片多層膜; 2.激光器腔鏡高反射膜(HR)、分光膜。 | |
| 新能源與新材料 | 1.鈣鈦礦太陽能電池電極層(ITO/Ag)沉積; 2.柔性顯示面板(OLED)透明導(dǎo)電膜(AZO)鍍制。 | |
| 工藝適配 | 工藝類型 | 物理氣相沉積(PVD):磁控濺射、電弧離子鍍、電子束蒸發(fā); 化學氣相沉積(CVD):等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)。 |
| 鍍膜材料 | 金屬(Al、Cu、Ag)、氧化物(Al?O? 、TiO?)、氮化物(TiN、SiN)等。 | |
| 典型應(yīng)用 | 半導(dǎo)體代工 | 應(yīng)用場景:3nm邏輯芯片金屬互聯(lián)層沉積; 客戶價值:提升芯片良率15%,降低電遷移失效風險。 |
| 光學鏡頭制造 | 應(yīng)用場景:8K超高清鏡頭抗反射膜鍍制; 客戶價值:反射率<0.1%,透光率>99.5%(400-700nm波段)。 | |
| 鈣鈦礦光伏 | 應(yīng)用場景:大面積鈣鈦礦電池電極層連續(xù)鍍膜; 客戶價值:電池轉(zhuǎn)換效率突破26%,成本降低30%。 | |
| 航空航天 | 應(yīng)用場景:衛(wèi)星光學載荷耐輻射保護膜沉積; 客戶價值:通過ISO-15860空間環(huán)境模擬認證。 |
| 型號 | ZDM-90V | ZDM-125V | ZDM-215V | |
| 電源電壓 | AC 220V 50Hz | |||
| 控制系統(tǒng) | PLC智能控制 | |||
| 儀表控制 | 彩色觸摸屏 | |||
| 控溫范圍 | RT+10-200℃ | |||
| 溫度分辨率 | 0.1℃ | |||
| 溫度波動度 | ±0.1 | |||
| 真空度 | ≤133pa | |||
| 內(nèi)膽尺寸 | 450*450*450 | 500*500*500 | 550*550*650 | |
| 容積 | 90L | 125L | 210L | |
| 載物托架 | 2層 | 3層 | 3層 | |
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