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參考價	面議

產(chǎn)品簡介

日本AMAYA株式會社天谷制作高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設(shè)備伍爾夫系列與高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設(shè)備伍爾夫系列清潔溶液高速擴散到清潔表面快速消除異物和反應(yīng)產(chǎn)物無水痕干燥特征隨著LSI變得越來越復(fù)雜，光掩模/光罩需要更高的清晰度和準(zhǔn)確性。我們的清洗設(shè)備有助于這些產(chǎn)品的高清潔度和產(chǎn)量提高，并合作生產(chǎn)更完整的產(chǎn)品。配備使用功能水的旋轉(zhuǎn)清洗單元，該單元可以通過工件旋轉(zhuǎn)的離心力、臭氧水和添加氨的氫水排放

詳細(xì)介紹

日本AMAYA株式會社天谷制作

高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設(shè)備伍爾夫系列

與高清光掩模兼容的旋轉(zhuǎn)式清洗設(shè)備

伍爾夫系列

清潔溶液高速擴散到清潔表面
快速消除異物和反應(yīng)產(chǎn)物
無水痕干燥

特征

隨著LSI變得越來越復(fù)雜，光掩模/光罩需要更高的清晰度和準(zhǔn)確性。我們的清洗設(shè)備有助于這些產(chǎn)品的高清潔度和產(chǎn)量提高，并合作生產(chǎn)更完整的產(chǎn)品。
配備使用功能水的旋轉(zhuǎn)清洗單元，該單元可以通過工件旋轉(zhuǎn)的離心力、臭氧水和添加氨的氫水排放去除有機物、金屬離子和異物，直至檢測極限水平。通過切換和清潔每個清潔溶液，可以高速去除工件上的不純沉積物，廢液管理也是一種**的環(huán)境響應(yīng)工具。
采用
替代RCA清洗液的清洗液和清洗方法 SPM→臭氧水 ?實現(xiàn)完整的室溫清洗（無需高溫工藝） ?減少口罩
上化學(xué)溶液的殘留量
?更**的廢液處理（ISO14000措施）

SC-1 → 氫水加氨
?MoSi半色調(diào)掩膜的蝕刻預(yù)防

性能

PSM *終清潔（無 SPM）
類別	不。	項目	規(guī)范
空白	1	無顆粒	>32納米
空白	2	預(yù)置%	≧95%
圖像層（圖案側(cè)）	3	QZ 上的剩余軟缺陷	≧0.05微米（產(chǎn)率： 98%）
	4	移位器上剩余的軟缺陷	≧0.05微米， ≦10個（產(chǎn)率： 98%）
	5	SRAF（深色）缺失	沒有遺漏
	6	圖案損壞、靜電放電、劃痕	無損壞
	7	換檔器變化（相位）	≦-0.2 度，平均清潔 10 倍
	8	換檔器（變速器）	≦0.025%，平均清潔 10 倍
	9	換檔器（CD 平均值）	≦0.15nm，平均清潔度為10倍
	10	換檔器（CD 范圍）	≦0.5nm，平均清潔度為10倍
離子殘基	11	化學(xué)殘留物（SO4）	≦0.5 ppb
離子殘基	12	化學(xué)殘留物（NH4）	≦17.0 ppb

原理圖規(guī)格

大小

清洗裝置本體	7300毫米（寬） x 1410毫米（深） x 2300毫米（高）
電源箱	1400毫米（寬） x 500毫米（深） x 2150毫米（高）
化學(xué)溶液盒	2500毫米（寬） x 700毫米（深） x 2000毫米（高）
過濾器框	2600毫米（寬） x 700毫米（深） x 2000毫米（高）
熱滴機組	1250毫米（寬） x 550毫米（深） x 1750毫米（高）
氫水和碳酸水裝置	1050毫米（寬） x 1500毫米（深） x 2000毫米（高）
臭氧水機組	570毫米（寬） x 850毫米（深） x 2000毫米（高）