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EDI高純水設(shè)備

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更新時間:2025-04-29 07:57:15瀏覽次數(shù):171

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產(chǎn)品簡介

RO-EDI高純水制取設(shè)備(超純水處理設(shè)備)一、EDI(Electrode-ionization)是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)

詳細(xì)介紹

EDI高純水設(shè)備

RO-EDI高純水制取設(shè)備(超純水處理設(shè)備)

 一、EDI(Electrode-ionization)是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H和OH離子實(shí)現(xiàn)樹脂自再生來克服樹脂失效后通過化學(xué)藥劑再生的缺陷,是20世紀(jì)80年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展,EDI技術(shù)已經(jīng)在北美及歐洲占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場。EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透配合使用,,組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng),,取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。EDI裝置進(jìn)水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ·cm,反滲透裝置可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達(dá)18MΩ·cm以上的超純水。

二、應(yīng)用領(lǐng)域

A、制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。
B、在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。

C、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
D、超純材料和超純化學(xué)試劑;
E、實(shí)驗(yàn)室和中試車間;
F、汽車、家電表面拋光處理;
G、光電產(chǎn)品;
H、其他高科技精微產(chǎn)品

三、工藝圖

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EDI連續(xù)脫鹽設(shè)備(代替混床)可以做到3年使用期內(nèi)不需要酸堿再生。設(shè)備采用反滲透膜作為除鹽主體設(shè)備,做到排污時無工業(yè)污染廢水排除,超純水工藝采用的EDI連續(xù)除鹽工藝,做到了不需酸堿再生,自動電離再生法,省電,環(huán)保等。

 

 電子級超純水中國國家標(biāo)準(zhǔn)(GB/T11446.1-1997)

 

項(xiàng)目

級別

比電阻MΩ.cm@25℃

硅≤ μg/L

>1μm微粒數(shù)<個/ml

細(xì)菌個數(shù)< 個/ml

銅≤μg/L

鋅≤μg/L

鎳≤μg/L

鈉≤μg/L

鉀≤ g/L

氧≤ μg/L

硝酸根≤
 
μg/L

磷酸根≤
 
μg/L

硫酸根≤μg/L

總有機(jī)碳≤μg/L

EW-Ⅰ

18(95%的時間不低于17)

2

0.1

0.001

0.2

0.2

0.1

0.5

0.5

1

1

1

1

20

EW-Ⅱ

15(95%的時間不低于13)

10

5

0.1

1

1

1

2

2

1

1

1

1

100

 

一般城市水源中存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽離子組成。通過反滲透預(yù)處理,99%以上的離子可以被除去。另外,原水中也可能包括其他微量元素、溶解的氣體(例如CO2)和一些弱電解質(zhì)(例如硼,二氧化硅)這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中必須被除掉。但是反滲透過程對于這些雜質(zhì)的清除效果較差。

 

EDI的工作過程中離子交換膜是不允許水通過的。因此,他們可以隔絕淡水和濃水水流。離子交換膜和離子交換樹脂的工作原理相近,可以使特定的離子遷移。陰離子交換膜只允許陰離子通過,不允許陽離子通過;而陽離子交換膜正好相反。在一對陰陽離子交換膜之間充填混合離子交換樹脂就形成一個EDI單元。陰陽離子交換膜之間由混合離子交換樹脂占據(jù)的空間被稱為淡水室。將一定數(shù)量的EDI單元羅列在一起,使陰離子交換膜和陽離子交換膜交替排列,并使用網(wǎng)狀物將每個EDI單元隔開形成濃水室。在給定的直流電壓的推動下,在淡水室中,離子交換樹脂中的陰陽離子分別在電場作用下向正負(fù)極遷移,并透過陰陽離子交換樹脂進(jìn)入濃水室,同時,給水中的離子被離子交換樹脂吸附而占據(jù)由離子電遷移而流下的空位。事實(shí)上離子的遷移和吸附是同時并連續(xù)發(fā)生的。通過這樣的過程,給水中的離子穿過離子交換膜進(jìn)入到濃水室被去除而成為除鹽水。

帶負(fù)電荷的陰離子(例如0H—、Cl—)被正極(+)吸引而通過陰離子交換膜,進(jìn)入到臨近的濃水室中。此后這些離子在繼續(xù)向正極遷移中遇到臨近的陽離子交換膜,而陽離子交換膜不允許其通過,這些離子即被阻隔在濃水中,在濃水中,透過陰陽膜的離子維持電中性。

DI組件電流量和離子遷移量成正比。電流量由兩部分組成,一部分源于被除去離子的遷移,另一部分源于水本身電離產(chǎn)生的H+和0H-,這些就地產(chǎn)生的H+和0H-對離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)再生。

EDI組件中的離子交換樹脂可以分為兩部分,一部分稱作工作樹脂,另一部分稱作拋光樹脂,二者的界限稱為工作前沿。工作樹脂主要起導(dǎo)電作用,而拋光樹脂在不斷交換和被連續(xù)再生。工作樹脂承擔(dān)著除去大部分離子的任務(wù),而拋光樹脂則承擔(dān)著去除象弱電解質(zhì)等較難清除的離子的任務(wù)。

EDI的電源所使用的直流電源應(yīng)在運(yùn)行電壓范圍內(nèi)空調(diào),并可以提供再生需要的電壓。直流電源的功率應(yīng)滿足EDI電流(6A)的要求。直流電源的紋波率不能超過30%。過高的紋波率會使EDI組件在瞬間承受高于表觀有效電流/電壓,造成對組件的破壞。當(dāng)多個EDI組件共用一個直流電源時,每個EDI電壓/電流應(yīng)實(shí)現(xiàn)獨(dú)立可調(diào)。配有電壓表和電流表。同時,應(yīng)當(dāng)配備限流裝置。為保護(hù)EDI組件,當(dāng)流經(jīng)EDI組件的水流量低于某一點(diǎn)時,應(yīng)關(guān)閉電源。

 

 

 



 




 

 


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