秀洲區(qū)硅片清洗超純水設(shè)備/按需定制

高純度：硅片表面極為敏感，水中的雜質(zhì)離子如鈣、鎂、鐵、氯、硫酸根等會(huì)在硅片表面吸附或形成化合物，影響硅片的電學(xué)性能和后續(xù)工藝。通常要求超純水的電阻率達(dá)到 18.2MΩ?cm 以上，幾乎不含任何離子雜質(zhì)。

低顆粒度：硅片制造工藝不斷向精細(xì)化發(fā)展，微小顆粒會(huì)導(dǎo)致光刻圖案失真、短路等問(wèn)題。因此，用于硅片清洗的超純水需要嚴(yán)格控制顆粒數(shù)量，一般要求每升水中大于 0.1μm 的顆粒數(shù)不超過(guò) 100 個(gè)。

低微生物含量：微生物在硅片表面生長(zhǎng)繁殖會(huì)改變硅片表面化學(xué)性質(zhì)，還可能釋放出代謝產(chǎn)物污染硅片。所以，超純水的微生物指標(biāo)要求**，通常每毫升水中細(xì)菌總數(shù)不超過(guò) 1CFU。

低有機(jī)物含量：有機(jī)物可能在硅片表面形成有機(jī)膜，影響硅片與其他材料的粘附性和化學(xué)反應(yīng)活性。一般要求超純水中的總有機(jī)碳（TOC）含量低于 10ppb