2003年日本電子推出了世界商業(yè)化場(chǎng)發(fā)射電子探針（FE-EPMA），此后被廣泛地應(yīng)用于金屬、材料、地質(zhì)等各個(gè)領(lǐng)域，并獲得了的贊譽(yù)。研發(fā)的第三代場(chǎng)發(fā)射電子探針JXA-8530F Plus，電子光學(xué)系統(tǒng)有了很大的改進(jìn)，新的軟件能提供更高的通量，并保持著的穩(wěn)定性，能實(shí)現(xiàn)更廣泛的EPMA應(yīng)用。

肖特基場(chǎng)發(fā)射電子探針Plus

JXA-8530F Plus采用浸沒式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍,優(yōu)化了角電流密度，能利用2 μA以上的大探針電流進(jìn)行分析，還提高了分析條件下的二次電子像的分辨率。

高級(jí)軟件

新開發(fā)了多種基于Windows操作系統(tǒng)的軟件，其中包括：能使痕量元素分析更加簡(jiǎn)便的“痕量元素分析程序"、能自動(dòng)制作相圖的“相圖制作器"以及只需簡(jiǎn)單輸入就能對(duì)表面凹凸不平樣品進(jìn)行測(cè)試的“不平坦樣品的分析程序"等。

備注：Windows7® 為美國微軟公司在美國及其它國家的注冊(cè)商標(biāo)或商標(biāo)。

靈活的WDS配置

X射線波譜儀可以選擇140 R或100 R羅蘭圓， 羅蘭圓半徑為140 mm的XCE/L型X射線譜儀檢測(cè)范圍寬，波長(zhǎng)分辨率高和P/ B比優(yōu)異，100 mm的H型X射線譜儀具有X射線衍射強(qiáng)度高的特點(diǎn)，可以根據(jù)需要選擇使用。

WDS/EDS組合系統(tǒng)

JXA-8530FPlus標(biāo)配了JEOL制造的30平方毫米 SD檢測(cè)器（以下簡(jiǎn)稱SD檢測(cè)器），憑借高計(jì)數(shù)率的SD檢測(cè)器，在與WDS相同的分析條件下可以進(jìn)行EDS分析，通過簡(jiǎn)單的操作就能采集EDS譜圖。

多功能樣品室

樣品室的可擴(kuò)展性強(qiáng)，配備了樣品交換室，可以安裝各種附件。 可以安裝的附件

強(qiáng)力、清潔的真空系統(tǒng)

高強(qiáng)力真空系統(tǒng)包括兩臺(tái)磁懸浮渦輪分子泵， 鏡筒內(nèi)還采用兩個(gè)中間室，通過差動(dòng)抽氣保持電子槍室的高真空。

軟X射線分析譜儀 (SXES)

SXES (Soft X-Ray Emission Spectrometer)　 軟X射線分析譜儀

日本東北大學(xué)多元物質(zhì)科學(xué)研究所（寺內(nèi)正己教授）和日本電子株式會(huì)社共同開發(fā)的的高分辨率軟X射線分析譜儀。 新開發(fā)的變柵距衍射光柵(VLS）和高靈敏度的CCD相機(jī)組合，同時(shí)檢測(cè)Li-K系譜線和B-K系譜線，該譜儀實(shí)現(xiàn)了的能量分辨率，因而能進(jìn)行化學(xué)結(jié)合狀態(tài)分析等。

miXcroscopy （關(guān)聯(lián)顯微鏡)

miXcroscopy 光學(xué)顯微鏡/掃描電子顯微鏡關(guān)聯(lián)系統(tǒng)

能批量登錄光學(xué)顯微鏡指定的坐標(biāo)數(shù)據(jù)作為EPMA的分析點(diǎn)，該系統(tǒng)于需要用光學(xué)顯微鏡決定分析位置的樣品。