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JXA-8530F Plus 場發(fā)射電子探針顯微分析儀

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產(chǎn)品簡介

2003年日本電子推出了世界商業(yè)化場發(fā)射電子探針(FE-EPMA),此后被廣泛地應(yīng)用于金屬、材料、地質(zhì)等各個(gè)領(lǐng)域,并獲得了的贊譽(yù)。研發(fā)的第三代場發(fā)射電子探針JXA-8530F Plus,電子光學(xué)系統(tǒng)有了很大的改進(jìn),新的軟件能提供更高的通量,并保持

詳細(xì)介紹

  • 2003年日本電子推出了世界商業(yè)化場發(fā)射電子探針(FE-EPMA),此后被廣泛地應(yīng)用于金屬、材料、地質(zhì)等各個(gè)領(lǐng)域,并獲得了的贊譽(yù)。研發(fā)的第三代場發(fā)射電子探針JXA-8530F Plus,電子光學(xué)系統(tǒng)有了很大的改進(jìn),新的軟件能提供更高的通量,并保持著的穩(wěn)定性,能實(shí)現(xiàn)更廣泛的EPMA應(yīng)用。

  • 肖特基場發(fā)射電子探針Plus

  • JXA-8530F Plus采用浸沒式肖特基場發(fā)射電子槍,優(yōu)化了角電流密度,能利用2 μA以上的大探針電流進(jìn)行分析,還提高了分析條件下的二次電子像的分辨率。

  • 高級(jí)軟件

  • 新開發(fā)了多種基于Windows操作系統(tǒng)的軟件,其中包括:能使痕量元素分析更加簡便的“痕量元素分析程序"、能自動(dòng)制作相圖的“相圖制作器"以及只需簡單輸入就能對(duì)表面凹凸不平樣品進(jìn)行測試的“不平坦樣品的分析程序"等。

  • 備注:Windows7® 為美國微軟公司在美國及其它國家的注冊(cè)商標(biāo)或商標(biāo)。

  • 靈活的WDS配置

  • X射線波譜儀可以選擇140 R或100 R羅蘭圓, 羅蘭圓半徑為140 mm的XCE/L型X射線譜儀檢測范圍寬,波長分辨率高和P/ B比優(yōu)異,100 mm的H型X射線譜儀具有X射線衍射強(qiáng)度高的特點(diǎn),可以根據(jù)需要選擇使用。

  • WDS/EDS組合系統(tǒng)

  • JXA-8530FPlus標(biāo)配了JEOL制造的30平方毫米 SD檢測器(以下簡稱SD檢測器),憑借高計(jì)數(shù)率的SD檢測器,在與WDS相同的分析條件下可以進(jìn)行EDS分析,通過簡單的操作就能采集EDS譜圖。



  • 多功能樣品室

  • 樣品室的可擴(kuò)展性強(qiáng),配備了樣品交換室,可以安裝各種附件。 可以安裝的附件

    • ? 電子背散射衍射系統(tǒng)(EBSD)

    • ? 陰極熒光檢測系統(tǒng)

    • ? 軟X射線分析譜儀

    • ? 不暴露在大氣環(huán)境下的轉(zhuǎn)移艙

    • ? 高蝕刻速率的離子源


  • 強(qiáng)力、清潔的真空系統(tǒng)

  • 高強(qiáng)力真空系統(tǒng)包括兩臺(tái)磁懸浮渦輪分子泵, 鏡筒內(nèi)還采用兩個(gè)中間室,通過差動(dòng)抽氣保持電子槍室的高真空。


  • 軟X射線分析譜儀 (SXES)

  • SXES (Soft X-Ray Emission Spectrometer)  軟X射線分析譜儀

  • 日本東北大學(xué)多元物質(zhì)科學(xué)研究所(寺內(nèi)正己教授)和日本電子株式會(huì)社共同開發(fā)的的高分辨率軟X射線分析譜儀。 新開發(fā)的變柵距衍射光柵(VLS)和高靈敏度的CCD相機(jī)組合,同時(shí)檢測Li-K系譜線和B-K系譜線,該譜儀實(shí)現(xiàn)了的能量分辨率,因而能進(jìn)行化學(xué)結(jié)合狀態(tài)分析等。


  • miXcroscopy (關(guān)聯(lián)顯微鏡)

  • miXcroscopy 光學(xué)顯微鏡/掃描電子顯微鏡關(guān)聯(lián)系統(tǒng)

  • 能批量登錄光學(xué)顯微鏡指定的坐標(biāo)數(shù)據(jù)作為EPMA的分析點(diǎn),該系統(tǒng)于需要用光學(xué)顯微鏡決定分析位置的樣品。


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