性能優(yōu)勢：

儀器全年工作，具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可靠性

可在約50秒內(nèi)同時分析32個通道

單一分光室，方便保養(yǎng)、維護(hù)

原廠分析程序，可校正集體效應(yīng)和譜線干擾

使用認(rèn)證標(biāo)樣來標(biāo)定和標(biāo)準(zhǔn)化工作曲線，保證分析的準(zhǔn)確度

光源設(shè)計緊湊，有效降低電磁干擾，改善儀器穩(wěn)定性

高質(zhì)量的真空光學(xué)系統(tǒng)

高質(zhì)量的恒溫和防震性能

 

UV-PLUS光學(xué)系統(tǒng)：

   SPECTROLAB的光學(xué)系統(tǒng)集合了兩種檢測器的優(yōu)勢：光電倍增管和CCD檢測器。采用了優(yōu)化的帕邢——龍格架構(gòu)，光學(xué)系統(tǒng)的機(jī)械結(jié)構(gòu)異常堅固，同時減少了內(nèi)部空間體積。內(nèi)部恒溫、恒壓確保光學(xué)系統(tǒng)不受外界環(huán)境變化和影響。UV-PLUS技術(shù)用于保障遠(yuǎn)紫外光譜范圍的測量。密封光室內(nèi)部在儀器出廠前充入高純氬氣，保證遠(yuǎn)紫外光譜的透過率。光室內(nèi)的氬氣由分子薄膜泵驅(qū)動循環(huán)至凈化裝置，以保證內(nèi)部氬氣的高純度。

    UV-PLUS光學(xué)系統(tǒng)是純凈的，同時具有杰出的長期穩(wěn)定性。系統(tǒng)在120-180nm波段透光效率，運行成本很低。

   的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計與UV-PLUS概念相結(jié)合，M11能夠同時以高達(dá)9pm的光譜分辨率記錄120-800nm波段的全部一級光譜圖。這一核心技術(shù)奠定了SPECTROLAB杰出分析性能的重要基礎(chǔ)。

 

等離子發(fā)生器光源：

   *新一代等離子發(fā)生器是至今*堅固的激發(fā)光源。超穩(wěn)定的能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數(shù)字信號發(fā)生配合全數(shù)字能量輸出，確保激發(fā)區(qū)等離子體能量超高分辨率和高保真輸出。 在標(biāo)準(zhǔn)分析應(yīng)用中18秒內(nèi)可以獲得分析數(shù)據(jù)，提高了樣品輸出量和過程控制效率。

 

火花臺：

   M11的火花臺直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)?；鸹ㄅ_內(nèi)部體積進(jìn)一步縮小，優(yōu)化氬氣流

向設(shè)計使得氬氣消耗更低，同時有效移除殘留粉塵。尾氣經(jīng)兩級過濾系統(tǒng)排出。火花臺工作維護(hù)量極低。壓桿可以左右移動，接駁安全電路?？梢钥焖俑鼡Q樣品。

   適用分析大尺寸異型樣品。特殊設(shè)計的樣品夾可用于分析棒材、線材和薄片。小樣品專用分析程序提高了 分析精度和準(zhǔn)確性。

 

分析測試：

   斯派克火花光譜儀M11的精致設(shè)計使用日常維護(hù)和校工作量降到，儀器操作變得非常簡單。日常分析按一個鍵就可以完成。配合自動制樣設(shè)備，可以實現(xiàn)全自動大樣品量輸出。集成于Spark Analyzer Vision 軟件包的硬件診斷系統(tǒng)，實時監(jiān)控和存檔儀器的運行狀態(tài)。對于儀器參數(shù)設(shè)置，數(shù)據(jù)管理，聯(lián)網(wǎng)傳輸，打印和材料牌號判定等功能，軟件設(shè)計了簡單直觀，易懂的操作界面。SQL數(shù)據(jù)庫格式是數(shù)據(jù)管理軟件的基礎(chǔ)。

   基于用戶的分析需求，儀器可以定制成十種標(biāo)準(zhǔn)基體的任意組合。

   CCD光學(xué)系統(tǒng)可以自由選擇120-800nm范圍內(nèi)的任意譜線用于分析線或參比線。光電管光學(xué)系統(tǒng)*多可設(shè)置108個高性能光電倍增管。每個光電管通道都有是一個微積分器，具有TRS（時間分解光譜技術(shù)）分析痕量元素和SSE（單火花評估技術(shù)）分析元素相態(tài)。事實上，所有分析要求都可以在M11中*優(yōu)無折衷地實現(xiàn)。

   配備*現(xiàn)代光譜技術(shù)和高質(zhì)量的元器件，SPECTROLABM11設(shè)計應(yīng)用于解決各種分析要求。憑借其杰出的性能表現(xiàn)和靈活性，適用于過程控制，質(zhì)量監(jiān)控，材料牌號判定，材料研究和開發(fā)，以及金屬冶煉，加工和回收工業(yè)中的各種分析應(yīng)用。

 

 

技術(shù)性能及指標(biāo)：

1、分光室：

真空型（真空度≤3Pa）

一米焦距，帕邢龍格裝置

恒溫控制（32℃±0.1℃）

特殊的鑄鐵材料，形變小

2、通道：*多可配置32個

3、凹面光柵

光柵刻線密度：2160gr/mm

曲率半徑998.8mm

逆線色散率0.47nm/mm

波長范圍170-460nm

4、狹縫

入射狹縫寬度20μm

出射狹縫為整體狹縫，寬度70-130μm

5、光電倍增管

Φ13.5mm，10級側(cè)窗型，熔融石英或玻璃外殼；

6、分辨率：視光柵、出射狹縫和光譜等級而定；

7、分析時間：視樣品類而定，一般不到40s；

8、激發(fā)光源：利用高壓電火花放電，放電頻率200 Hz或400 Hz，放電間隙3mm；

9、光譜儀檢測：采用光電倍增管測光，光電倍增管連續(xù)電壓可調(diào)；傳統(tǒng)的分段積分法測光，利用FPGA技術(shù)，控制整個儀器的工作狀態(tài)。

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