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詳細摘要： 產(chǎn)品型號：4XB產(chǎn)品特點：4XB金相顯微鏡用于鑒別和分析各種金屬和合金的組織結(jié)構(gòu)，可廣泛應(yīng)用在工廠或?qū)嶒炇疫M行鑄件質(zhì)量的鑒定，原材料的檢驗或?qū)Σ牧咸幚砗蠼鹣嘟M織...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：4XI產(chǎn)品特點：4XI金相顯微鏡用于鑒別和分析各種金屬和合金的組織結(jié)構(gòu)，可廣泛應(yīng)用在工廠或?qū)嶒炇疫M行鑄件質(zhì)量的鑒定，原材料的檢驗或?qū)Σ牧咸幚砗蠼鹣嘟M織...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：4XC產(chǎn)品特點：4XC對于外形不規(guī)則或較大的試樣也可進行顯微鏡觀察，倒置式的儀器設(shè)計，操作時試樣觀察表面向下，并與工作臺面重合，而對試樣的高度和平行度...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：13XD-PC產(chǎn)品特點：廣泛應(yīng)用于應(yīng)用于教學科研金相分析、半導體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領(lǐng)域。也可應(yīng)用于電子、光纖、紡織、印刷及微顆粒...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：11XD-PC產(chǎn)品特點：倒置金相顯微鏡采用優(yōu)良的無限遠光學系統(tǒng)與模塊化的功能設(shè)計理念，可以方便升級系統(tǒng)，實現(xiàn)偏光觀察、暗場觀察等功能。

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：9XF產(chǎn)品特點：廣泛應(yīng)用于應(yīng)用于教學科研金相分析、半導體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領(lǐng)域。應(yīng)用于電子、光纖、紡織、印刷及微顆粒、粉末、同時...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：13XF-PC產(chǎn)品特點：采用的無限遠雙重色差校正光學技術(shù);適用于金屬鋼鐵,化工材料行業(yè)科研,質(zhì)檢和質(zhì)控部門等研究，反射光可實現(xiàn)明場,暗場,偏光,微分干...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：13XB-PC產(chǎn)品特點：適用于金屬鋼鐵,化工材料行業(yè)科研,質(zhì)檢和質(zhì)控部門等研究，反射光可實現(xiàn)明場,暗場,偏光,微分干涉,熒光觀察功能，透射光可實現(xiàn)明場...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：12XB-PC產(chǎn)品特點：12XB-PC可以將明場觀察下無法檢測的細微高低差，轉(zhuǎn)化為高對比度的明暗差并以立體浮雕形式表現(xiàn)出來，如LCD導電粒子，精密磁盤...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：6XB產(chǎn)品特點：新款升級為采用平場消色差光學系統(tǒng)和落射式柯拉照明系統(tǒng)，落射照明系統(tǒng)中設(shè)計防反射結(jié)構(gòu)，有效防止反射光干擾成像光線，使升級款成像更清晰、視...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：6XB-PC產(chǎn)品特點：新款升級為采用平場消色差光學系統(tǒng)和落射式柯拉照明系統(tǒng)，落射照明系統(tǒng)中設(shè)計防反射結(jié)構(gòu)，有效防止反射光干擾成像光線，使升級款成像更清...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：7XB-PC產(chǎn)品特點：產(chǎn)品用途大平臺檢測顯微鏡是專為IT行業(yè)大面積集成電路，晶片的質(zhì)量檢測而設(shè)計開發(fā)制造的，主體為正置式，三目鏡筒，比傳統(tǒng)的顯微鏡更適...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：8XB-PC產(chǎn)品特點：正置(明暗場)芯片檢查顯微鏡廣泛的應(yīng)用于透明，半透明或不透明物質(zhì)，比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：102XB-PC產(chǎn)品特點：102XB工業(yè)金相顯微鏡是針對半導體工業(yè)、硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、冶金工業(yè)需求而開發(fā)的。作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠...

詳細摘要： 產(chǎn)品型號：9XB產(chǎn)品特點：9XB正置金相顯微鏡屬中型金相顯微鏡。本儀器造型新穎、性能良好、使用方便可靠，可供工廠、高等院校、科研機構(gòu)及電子工業(yè)部門作金相、礦相、...