詳細介紹
EDM 665 是遷移率粒徑譜儀與光學氣溶膠譜儀的結合,能夠對5nm~32μm的顆粒物進行粒徑譜分析
具有全自動24/7監(jiān)控系統(tǒng),可進行長達一個月的無人值守操作
SMPS+C
測量原理: DMA+CPC
檢測粒徑范圍: 5-350 nm (M-DMA) /11-1094 nm(L-DMA)
檢測濃度范圍: 0一107 p/cm3
流量:采樣流量0.3lpm;鞘氣流量: 3lpm
光學氣溶膠光譜儀
測量原理: 單顆粒90"光散射(基于激光二極管)
檢測粒徑范圍: 0.25 μm-32 μm
檢測濃度范圍: 1-3X106 /cm3
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