熱水消毒的純化水設(shè)備

純水設(shè)備要求：

水質(zhì)符合中國(guó)藥典標(biāo)準(zhǔn)和FDA中各項(xiàng)規(guī)定；

設(shè)備全自動(dòng)運(yùn)行和有條件的全自動(dòng)處理程序（如反沖洗、再生、酸洗、消毒程序）；

單體和管道設(shè)備符合GMP的要求（如后端處理設(shè)備殺菌器、膜濾、終端水箱、管路均采用316L材料，預(yù)處理設(shè)備的管路采用SUS304材料）。

二級(jí)RO+EDI純化水系統(tǒng)

純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：

電導(dǎo)率≤0.5μs/cm

TOC≤200ppb

微生物≤20cfu/ml

RO系統(tǒng)

電子、醫(yī)藥、食品等工業(yè)中純水；輕紡、化工用水的凈化和制備；食品飲料用水、釀酒工藝用水的凈化與制備；工業(yè)生產(chǎn)中對(duì)水溶液進(jìn)行有用物質(zhì)和濃縮與回收；電廠等企業(yè)高壓鍋爐補(bǔ)給水的預(yù)脫鹽處理；苦咸水和海水的脫鹽淡化；作為高純水生產(chǎn)的一級(jí)除鹽設(shè)備。

RO+EDI系統(tǒng)

EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng)，一般多與反滲透（RO）配合使用，組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng)，取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交貨設(shè)備。EDI裝置進(jìn)水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ.cm，反滲透裝置可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達(dá)15MΩ.cm以上的超純水。

生產(chǎn)能力：

標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備型號(hào)表顯示的是在純蒸汽壓力為3bar,工業(yè)蒸汽為6bar的情況下的設(shè)備生產(chǎn)能力，單位是公斤/小時(shí)。如果要獲得某種型號(hào)設(shè)備的實(shí)際生產(chǎn)能力，則必須根據(jù)實(shí)際工作壓力，在標(biāo)定生產(chǎn)能力上乘上一個(gè)轉(zhuǎn)換系數(shù)。

公用工程需求：

不含雜質(zhì)和腐蝕性物質(zhì)的工業(yè)飽和蒸汽；壓力為9bar進(jìn)料水要求為去離子水、無(wú)硅石、氯、胺、揮發(fā)性物質(zhì)等，壓力要求為1-2bar

供電標(biāo)準(zhǔn)：根據(jù)客戶要求。

干燥、無(wú)油、干凈的壓縮空氣，最小壓力要求為6bar

純水貯存分配系統(tǒng)

根據(jù)客戶現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際需求及消毒的要求定制設(shè)計(jì)，以GMP、ISPE工程指南和FDA的規(guī)范為設(shè)計(jì)理念基礎(chǔ)，框架結(jié)構(gòu)，節(jié)省空間，即插即用，安裝方便，在制造工廠進(jìn)行預(yù)安裝與運(yùn)行確認(rèn)，所有管道為316L不銹鋼、、衛(wèi)生型卡盤連接方式所有產(chǎn)品接觸的表面，粗糙度（Ra）小于0.6μm，回路中沒有中間貯罐，避免細(xì)菌滋生，符合FDA要求。

固定式CIP工作站

CIP清洗裝置即可作為不分解生產(chǎn)設(shè)備，又可用于手動(dòng)操作、自動(dòng)操作的清洗系統(tǒng)，幾乎被引進(jìn)到所有的食品，飲料及制藥等工廠。CIP清洗裝置不僅能清洗機(jī)器，而且還能控制微生物的清洗方法。

移動(dòng)式CIP工作站

CIP清洗裝置其有以下的優(yōu)點(diǎn)：

能使生產(chǎn)計(jì)劃合理化及提高生產(chǎn)能力。

與手洗相比較，不但沒有因作業(yè)者之差異而影響清洗效果，還能提高其產(chǎn)品質(zhì)量

能防止清洗作業(yè)中的危險(xiǎn)，節(jié)省勞動(dòng)力

可節(jié)省清洗劑、蒸汽、水及生產(chǎn)成本

能增加機(jī)器部件的使用年限

CIP清洗裝置分手動(dòng)，半自動(dòng)及全自動(dòng)三種供用戶選擇