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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：IRLC 可以對(duì)硅晶片的表面之下和內(nèi)部進(jìn)行檢查, 使其內(nèi)部結(jié)構(gòu)以亞微米分辨率呈現(xiàn)。

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：奧林巴斯激光共焦顯微鏡采用了高級(jí)光學(xué)系統(tǒng)，可通過(guò)非破壞觀察法生成高畫(huà)質(zhì)的圖像并進(jìn)行的3D測(cè)量。其準(zhǔn)備操作也非常簡(jiǎn)單且無(wú)需對(duì)樣本進(jìn)行預(yù)先處理。

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：奧林巴斯偏光顯微鏡BX53-P型研究級(jí)專業(yè)偏光顯微鏡具有鮮明的偏光成像，是地質(zhì)學(xué)家的理想之選。

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：USPM-RU-W近紅外顯微分光測(cè)定儀可以高速&高精細(xì)地進(jìn)行可視光區(qū)域至近紅外區(qū)域的大范圍波長(zhǎng)的分光測(cè)定。

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：MC1000離子濺射儀是由日立公司自行設(shè)計(jì)制造，針對(duì)掃描電鏡的精細(xì)需求而設(shè)計(jì)，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品，尤其適合于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測(cè)應(yīng)用。

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：日立IM4000Plus離子研磨儀利用氬離子對(duì)樣品即可以進(jìn)行平面研磨，也可以進(jìn)行截面切割，是對(duì)樣品進(jìn)行無(wú)應(yīng)力加工的理想工具。

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對(duì)樣品濺射金屬靶材，為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層，方便電鏡觀察。

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：ArBlade5000離子研磨儀保留了IM4000系列的平面和截面研磨功能，同時(shí)對(duì)加工速率有了很大提升。

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：Asteria系列光度計(jì)適合于亮度、照度和Flicker閃爍測(cè)量。

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：LEXT OLS4500是一款集成了激光顯微鏡和探針掃描顯微鏡功能于一體的新型納米檢測(cè)顯微鏡，可以實(shí)現(xiàn)從50倍到100萬(wàn)倍的超大范圍的觀察和測(cè)量。

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：奧林巴斯BX3M系列正置金相顯微鏡采用了模塊化設(shè)計(jì)，為廣泛的材料學(xué)和工業(yè)應(yīng)用提供了多樣化的解決方案。

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：奧林巴斯GX53倒置顯微鏡廣泛應(yīng)用于鋼鐵、汽車、電子及其他制造行業(yè)。用戶只需將樣品倒扣放置在載物臺(tái)上即可檢測(cè)拋光金屬和切片樣品。