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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品介紹化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝是一種涂層工藝，它在加熱的基材表面使用熱誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)，試劑以氣態(tài)形式（CH4和H2等離子體）提供

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹

化學(xué)氣相沉積 (CVD) 工藝是一種涂層工藝，它在加熱的基材表面使用熱誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)，試劑以氣態(tài)形式（CH4 和 H2 等離子體）提供。

CVD 工藝在真空爐中進(jìn)行，溫度范圍為 600 至 2500 攝氏度。在此過(guò)程中，將一片晶種薄片放置在密封室中并加熱到 800 攝氏度左右。然后在該室中填充碳達(dá)到的氣體(CH4 &H2)，在這個(gè)過(guò)程中，來(lái)自氣體的離子被解離，從而增加了石墨烯在襯底上的沉積，即目標(biāo)晶種上的碳和氫等離子體。

一片金剛石的種子放置于高溫高壓的密封容器中。容器里有甲烷等混合氣體。通過(guò)微波、激光或其它技術(shù)手段將氣體電離出等離子體，即把氣體中的分子電離后，比較純的碳元素就附著于金剛石的種子表面，逐漸地生長(zhǎng)成晶體。晶體生長(zhǎng)過(guò)程中，溫度檢測(cè)是至關(guān)重要的。實(shí)際是要檢測(cè)晶體表面的溫度而非等離子體的溫度（透過(guò)等離子體）。

該應(yīng)用程序的挑戰(zhàn)性部分是等離子體發(fā)射特定波長(zhǎng)的紅外能量，我們需要通過(guò)等離子體測(cè)量目標(biāo)的一致溫度。 AST 提供基于非接觸式紅外的高溫計(jì)，可在等離子體透明的選定波長(zhǎng)下工作。由于 CVD 是一個(gè)耗時(shí)的過(guò)程，因此儀器的高精度和穩(wěn)定性至關(guān)重要。

以色列AST(Accurate Sensors Technology)公司專門(mén)設(shè)計(jì)制作的CVD測(cè)溫儀，可以應(yīng)用于人造金剛石、硅外延生長(zhǎng)、碳化硅晶體爐等，具有內(nèi)置溫度顯示、模擬和數(shù)字輸出、繼電器輸出和參數(shù)設(shè)置按鍵。它的傳感頭非常小，安裝非常方便。隨附的軟件 Infrasoft 可幫助用戶通過(guò) RS 232 或 RS 485 在電腦中連續(xù)記錄過(guò)程數(shù)據(jù)。

	AST-EG系列
測(cè)量范圍（分段）	250 ~ 1800°C
發(fā)射率0.1～0.3%+1
重復(fù)性	讀數(shù)的0.1% + 1
主要應(yīng)用	退火、軋鋼、焊接、金屬加工、鍛造等
瞄準(zhǔn)方式	激光
熱電偶輸出（選配）	—
信號(hào)處理	峰值保持及跟蹤保持
可選配件	安裝配件、RS-232/ RS-485接口、其它的電纜長(zhǎng)度