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詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該種cell被廣泛用于高壓磁學科學研究，能夠滿足軸向與徑向進光需求，能與低溫裝置配合進行磁學、電學、X-Ray、電學和同步輻射等相應(yīng)的實驗

詳細摘要： 改型金剛石對頂砧壓腔Symmetric DAC

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該種cell主要特點在于采用了高強無磁合金材質(zhì)，在兼顧高強力學特性的前提下，進行強磁場環(huán)境磁學實驗

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該種cell是在常規(guī)S型DAC基礎(chǔ)上進行改進，增強了機體材料性能，降低了配合磨損和形變，提高了DAC的穩(wěn)定性與使用溫度

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該種cell被廣泛用于高壓科學研究，能夠滿足軸向與引線需求，可以與QD的PPMS設(shè)備配合進行磁學、電學和其他原位測試實驗

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：PPMS-20.5cell被廣泛用于高強度高壓磁學科學研究，能夠滿足軸向與徑向引線需求，能與低溫裝置配合進行磁學、電學、X-Ray、電學和同步輻射等相...

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該種cell被廣泛用于低溫無磁高壓科學研究，能夠滿足軸向與徑向進光需求，能與低溫裝置配合進行光學、X-Ray、電學和同步輻射等相應(yīng)的實驗

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該種cell主要特點在于采用了In718高溫合金材質(zhì)，在兼顧高強力學特性的前提下，進行高溫高壓原位實驗

詳細摘要： S15型cell技術(shù)說明:1、材質(zhì)為V350高強鋼

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該裝置是一套采用單氣膜原位加壓的金剛石對頂砧壓腔，配合高強度殼體與小砧面壓砧，壓力可達400GPa

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該裝置是一套采用單氣膜原位加壓的金剛石對頂砧壓腔，適宜在低溫環(huán)境進行光學、XRD和磁學測量

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：VTC-300USS超聲霧化旋轉(zhuǎn)涂膜機,噴膠機可以精確控制溶液化學計量比、霧粒噴出速度、霧粒大小等參數(shù)

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：VTC-50A旋轉(zhuǎn)涂膜機供電系統(tǒng)采用了電機部分與控制部分分別使用獨立電源的方式，調(diào)速系統(tǒng)則采用了抗干擾性高的單片機進行控制，使得轉(zhuǎn)數(shù)在高達1000-8...

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：VTC-200-4P紅外加熱噴霧旋轉(zhuǎn)涂膜機、勻膠機、顯影機、甩膠機、旋涂儀、spincoater主要用于半導體工藝、制版工藝過程中圖形的顯影及表面涂覆...

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：VTC-200-CSC柜式勻膠機采用全PP耐腐蝕全柜式設(shè)計,滿足工業(yè)級別手動勻膠需求,配備自動點膠功能確保了勻膠和點膠過程中的重復性

詳細摘要： VTC-100PA-UV型紫外光旋轉(zhuǎn)涂膜機

詳細摘要： 產(chǎn)品詳細介紹：可適用于高真空條件下對粉體材料的表面包覆鍍膜實驗(更新日期2019.1.11）產(chǎn)品型號振動樣品臺產(chǎn)品特點1、振動樣品臺安裝在真空腔體底部2、粉末放...

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：微型PECVD系統(tǒng)采用?3"×16"的石英腔體，內(nèi)部設(shè)有加熱圈對樣品進行加熱，溫度可以達到400℃，且采用程序化控溫，系統(tǒng)還配有2通道混氣裝置和雙旋機...

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：MTI系列加熱平臺是專為材料加工及材料研究實驗室而開發(fā)，采用鋁材質(zhì)整體鑄造，單片機作為核心控制部件，升溫速度快，控溫精準，溫度高低可調(diào)，使用完畢后散熱...

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：SYJ-30QY圓環(huán)打孔取樣機是專門用于固體材料鉆取圓柱或圓環(huán)狀樣品時使用，可采用手動方式取樣，也可采用控制器自動控制進給和退出的方式對樣品進行取樣，...