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ME-L 穆勒矩陣橢偏儀03090801

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品簡(jiǎn)介:ME-L是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等

詳細(xì)介紹

 

 

 

 

 

img1

 

產(chǎn)品簡(jiǎn)介: ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入, 其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等??蓱?yīng)用 于半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu),半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu),新材料,新物理現(xiàn)象研究,平板顯示,光伏太陽(yáng)能,功能性 涂料,生物和化學(xué)工程,塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維 /二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析。

雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測(cè)量全部穆勒矩陣 16 個(gè)元素;配置自動(dòng)變角器、五維樣件控制平臺(tái)等優(yōu)質(zhì)硬 件模塊,軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì),易上手、操作便捷;豐富的數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何結(jié)構(gòu)模型庫(kù),保 證數(shù)據(jù)分析能力。

產(chǎn)品型號(hào)

ME-L 全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀

主要特點(diǎn)

1、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍img2(193-2500nm)

 

2、可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理,測(cè)量信息量更大,測(cè)量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn)

 

3、基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置, 可一次測(cè)量獲得全部穆勒矩陣的 16 個(gè)元素,相對(duì)傳統(tǒng)光譜

橢偏儀可獲取更加豐富全面的測(cè)量信息

 

4、頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜

 

5、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫(kù)、多種算法模型庫(kù),涵蓋了目前絕大部分的光電材料

 

6、集成對(duì)納米光柵的分析img3,可同時(shí)測(cè)量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙

度等幾何形貌信息

技術(shù)參數(shù)

1、應(yīng)用:科研級(jí)/企業(yè)級(jí)

 

2、基本功能: Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜

 

3、分析光譜: 380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-1650nm)

 

4、單次測(cè)量時(shí)間: 1-8s

 

5、重復(fù)性測(cè)量精度: 0.005nm

 

6、精度(直通測(cè)量空氣)

 

橢偏參數(shù): ψ=45±0.05°△=0±0.1°

 

穆勒矩陣:對(duì)角元素 m=1±0.005; 非對(duì)角元素 m=0±0.005

 

7、光斑大?。?/span> 大光斑 2-3mmimg4;微光斑 200 μm

可選配置

波段選擇

V:380-1000nm

UV:245-1000nm

XN:210-1650nm

DN+:193-2500nm

角度選擇

自動(dòng):45-90°

手動(dòng):55-75°(5°步進(jìn)),90°

固定:65°

其他選擇

Mapping 選擇:100×100mm(供參考,按需定制)

溫控臺(tái):室溫一 600C(供參考,按需定制)

可選配件

1

溫控臺(tái)

2

Mapping 擴(kuò)展模塊

3

真空泵

4

透射吸附組件

 

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