詳細介紹
產(chǎn)品簡介:
1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐OTF-1200X 是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè),在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下,對金屬、非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的專用設備。
| 產(chǎn)品型號 | 1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐OTF-1200X | ||
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔 1000m 以下,溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水:不需要 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3 、氣:如作為CVD 系統(tǒng)使用,需自備氣源(標準帶有寶塔接頭,可自費改制成為雙卡套接頭) 4、工作臺:尺寸 600mm×600mm×700mm ,承重 100kg 以上 5、通風裝置:需要 | ||
| 主要特點 | 1、雙層殼體,配有循環(huán)風冷系統(tǒng),殼體溫度<60℃。 2 、內(nèi)爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高加熱效率,同時延長使用壽命。 3 、采用 PID 控制器,可以設置 30 段升降溫程序。 4、設有超溫及斷偶報警功能。 5 、已通過 CE 認證。 | ||
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| 技術參數(shù) | 1 、電源: AC 220V 50Hz/60Hz 2.5KW 2、石英管: 外徑 Ø50mm ,內(nèi)徑 Ø44mm ,長 1000mm 外徑 Ø60mm ,內(nèi)徑 Ø54mm ,長 1000mm 外徑 Ø80mm ,內(nèi)徑 Ø74mm ,長 1000mm 外徑 Ø100mm ,內(nèi)徑 Ø94mm ,長 1000mm 3、加熱元件: 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲,表面涂有氧化鋯 4、加熱區(qū)域: 440mm 5、恒溫區(qū)域: 150mm 6 、工作溫度: 1200℃(必須通入惰性氣體以防止爐管發(fā)生形變) ,連續(xù)工作 1100℃ 7、升降溫速率: 20℃/min 8、控溫精度:± 1℃ 9、真空度: 10-2torr (機械泵), 10-5torr (分子泵) 10、泄漏率: <5mtorr/min | ||
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| 產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸: 590mm×380mm×520mm;重量: 40kg | ||
| 標準配件 | 1 | 石英管 | 1 根 |
| 2 | 不銹鋼真空法蘭 | 1 套 | |
| 可選配件 | 1、鉸鏈式法蘭 2、數(shù)字真空計 3 、PC 控制軟件 | ||
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