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詳細(xì)摘要： 納米尺度3D光學(xué)干涉測(cè)量系統(tǒng)VS1800應(yīng)用光干涉現(xiàn)象，對(duì)微細(xì)的表面形貌進(jìn)行測(cè)量，可實(shí)現(xiàn)高性能薄膜、半導(dǎo)體、汽車零配件、顯示器等行業(yè)所要求的高精度測(cè)量。而且還能...

詳細(xì)摘要： IM4000PLUS是支持?jǐn)嗝嫜心ズ推矫嫜心ィ‵lat Milling?*1）的混合式離子研磨儀器。借此，可以用于適用于各種諸如對(duì)樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)觀察和各類分析等，...

詳細(xì)摘要： ArBlade 5000是日立離子研磨儀的高性能機(jī)型。它實(shí)現(xiàn)了超高速截面研磨。高效率截面加工功能，使電鏡截面觀察時(shí)樣品加工更簡(jiǎn)單。

詳細(xì)摘要： 操作簡(jiǎn)單且直觀。*:和TM4000Plus搭配應(yīng)用實(shí)例*:探測(cè)器內(nèi)置型(制造商: 德國(guó)Bruker nano GmbH)

詳細(xì)摘要： 圖標(biāo)按操作流程順序排列，操作簡(jiǎn)便。通過對(duì)應(yīng)譜圖可簡(jiǎn)單確認(rèn)元素重疊狀況。通過TruMap功能分離出譜峰重疊元素并準(zhǔn)確顯示(AZtecOne)。

詳細(xì)摘要： 臺(tái)式掃描電子顯微鏡(SEM)全新升級(jí)。我們以“更高畫質(zhì)、更易于使用、更易于觀察"為理念，開發(fā)出TM4000系列。在此基礎(chǔ)上，我們又推出功能更為多樣的TM4000...

詳細(xì)摘要： “的SEM更為緊湊"寬幅僅為45 cm的緊湊型的設(shè)計(jì)，仍具備4.0 nm的圖像分辨率。全新開發(fā)的用戶界面和電子光學(xué)系統(tǒng)讓您深切體驗(yàn)其高性能。

詳細(xì)摘要： 集優(yōu)異性能、操作簡(jiǎn)便性、多樣化功能于一身。日立高新推出的掃描電鏡SU3800/SU3900兼具操作性和擴(kuò)展性，結(jié)合眾多的自動(dòng)化功能，可高效發(fā)揮其高性能。SU39...

詳細(xì)摘要： MirrorCLEM是一個(gè)可簡(jiǎn)便觀察光學(xué)顯微鏡和掃描顯微鏡同一位置的CLEM*1用系統(tǒng)。*1:CLEM (Correlative light and elect...

詳細(xì)摘要： 創(chuàng)新的“EM Wizard"界面更加直觀，僅需要“點(diǎn)擊"即可得到的圖像。超前的電腦輔助技術(shù)將電鏡的操作與控制提升到一個(gè)新水平。

詳細(xì)摘要： SU7000不僅可以在低加速電壓下獲得高畫質(zhì)圖像，而且還可以同時(shí)接收多種信號(hào)。此外，它還具備大視野觀察、In-Situ觀察等FE-SEM的眾多性能。SU7000...

詳細(xì)摘要： 專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩(wěn)定觀察的半導(dǎo)體器件，高分辨成像所設(shè)計(jì)。